[发明专利]一种大面积平板式PECVD设备反应腔压力的控制装置

摘要

本发明公开了一种大面积平板式PECVD设备反应腔压力的控制装置，包括反应腔体，所述反应腔体入口端与送气系统连通，所述反应腔体出口端通过气路管道与真空泵连通，所述反应腔体与所述真空泵之间的气路管道上安装有真空蝶阀；所述真空蝶阀与所述反应腔体之间的气路管道与微调气路连通，所述微调气路由质量流量控制器和相应的管道组成。所述的反应腔体出口端气路管道安装有压力传感器；所述真空蝶阀的电子执行器、微调气路中的质量流量控制器与控制器连接。本发明实现了PECVD工艺准备阶段反应室压力的快速降低和工艺过程中反应腔真空度的精确控制功能。

主权项

一种大面积平板式PECVD设备反应腔压力的控制装置，包括反应腔体（7），其特征在于，所述反应腔体（7）入口端与送气系统连通，所述反应腔体（7）出口端通过气路管道（9）与真空泵（1）连通，所述反应腔体（7）与所述真空泵（1）之间的气路管道（9）上安装有真空蝶阀（2）；所述真空蝶阀（2）、反应腔体（7）之间的气路管道（9）与微调气路（10）连通；所述的微调气路（10）包括质量流量控制器（4）和与所述质量流量控制器（4）气路接口连通的管道；所述的反应腔体（7）出口端气路管道（9）内安装有压力传感器（5）；所述真空蝶阀（2）的电子执行器、质量流量控制器（4）、压力传感器（5）均与控制器相连接。