[发明专利]检测半导体芯片背面金属层分离的方法有效

专利信息
申请号: 201410260298.X 申请日: 2014-06-12
公开(公告)号: CN104064488A 公开(公告)日: 2014-09-24
发明(设计)人: 袁昌发;吕邦贵;袁浩;李建立;叶新民;顾中平 申请(专利权)人: 江阴新顺微电子有限公司
主分类号: H01L21/66 分类号: H01L21/66
代理公司: 江阴市同盛专利事务所(普通合伙) 32210 代理人: 唐纫兰;曾丹
地址: 214434 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明涉及一种检测半导体芯片背面金属层分离的方法,其特征在于所述方法包括以下步骤:步骤一、在待检测芯片背面金属化层上粘贴一层薄膜:将芯片放在洁净、无颗粒的平台上,将薄膜均匀地粘贴在芯片背面金属化层上;步骤二、对贴有薄膜的芯片进行烘烤:将粘贴好的芯片放入烘箱,同时往烘箱内通入氮气进行保护,要求烘箱的温度在80℃~100℃之间,烘烤时间为25分钟至30分钟,氮气要求流量在9L/min~11L/min范围内;步骤三、撕除芯片背面金属化层上的薄膜:将步骤二的芯片从烤箱中取出,冷却5分钟后将粘在芯片背面金属化层上的薄膜揭去。
搜索关键词: 检测 半导体 芯片 背面 金属 分离 方法
【主权项】:
一种检测半导体芯片背面金属层分离的方法,其特征在于所述方法包括以下步骤:步骤一、在待检测芯片背面金属化层上粘贴一层薄膜将芯片放在洁净、无颗粒的平台上,将薄膜均匀地粘贴在芯片背面金属化层上;步骤二、对贴有薄膜的芯片进行烘烤将粘贴好的芯片放入烘箱,同时往烘箱内通入氮气进行保护,要求烘箱的温度在80℃~100℃之间,烘烤时间为25分钟至30分钟,氮气要求流量在9L/min~11L/min范围内;步骤三:撕除芯片背面金属化层上的薄膜将步骤二的芯片从烤箱中取出,冷却5分钟后将粘在芯片背面金属化层上的薄膜揭去。
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