[发明专利]导电膜的制作方法及触控面板的制作方法及触控面板有效

专利信息
申请号: 201410260351.6 申请日: 2014-06-12
公开(公告)号: CN105448423B 公开(公告)日: 2018-06-22
发明(设计)人: 黄松建;李绍;王硕汶;郑太狮 申请(专利权)人: 宸鸿科技(厦门)有限公司
主分类号: H01B13/00 分类号: H01B13/00;H01B5/14;G06F3/041;G06F3/044
代理公司: 深圳市智享知识产权代理有限公司 44361 代理人: 王琴
地址: 361006 福建省厦门市湖*** 国省代码: 福建;35
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摘要: 发明涉及触控技术领域,特别涉及一种导电膜的制作方法及触控面板的制作方法及触控面板。导电膜的制作方法包括步骤S1,提供一透明基材;步骤S2,在所述透明基材上涂布光刻胶层;步骤S3,在所述光刻胶层上制作出相应图案化的凹槽并利用紫外光照固化所述光刻胶层,所述凹槽的顶部开口尺寸大于所述凹槽底部的尺寸;步骤S4,在透明光刻胶层上涂布一层疏水层,在所述凹槽内涂布掺有疏水溶剂的纳米银线溶液,该步骤中的涂布方式为狭缝式挤压涂布,所述狭缝式挤压涂布为从光刻胶层的一端到另一端做往复式涂布,且两端的连线呈15°—85°;所述纳米银线的线长为10μm‑300μm,线径小于500nm,长宽比大于400;及步骤S5,固化所述凹槽内的纳米银线溶液以形成纳米银线导电膜。
搜索关键词: 光刻胶层 触控面板 纳米银线 导电膜 制作 挤压涂布 透明基材 狭缝式 固化 顶部开口 疏水溶剂 涂布方式 紫外光照 长宽比 疏水层 图案化 往复式 触控 连线 线长 线径 透明
【主权项】:
1.一种导电膜的制作方法,其特征在于:该制作方法包括以下步骤:步骤S1,提供一透明基材;步骤S2,在所述透明基材上涂布光刻胶层;步骤S3,在所述光刻胶层上制作出相应图案化的凹槽并利用紫外光照固化所述光刻胶层,所述凹槽的顶部开口尺寸大于所述凹槽底部的尺寸;步骤S4,在透明光刻胶层上涂布一层疏水层,在所述凹槽内涂布掺有疏水溶剂的纳米银线溶液,该步骤中的涂布方式为狭缝式挤压涂布(slot die coating),所述狭缝式挤压涂布为从光刻胶层的一端到另一端做往复式涂布,且两端的连线呈15°—85°;所述纳米银线的线长为10μm‑300μm,线径于500nm,长宽比大于400;及步骤S5,固化所述凹槽内的纳米银线溶液以形成纳米银线导电膜。
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