[发明专利]一种大尺寸钌基合金溅射靶材及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201410260698.0 申请日: 2014-06-12
公开(公告)号: CN104032270A 公开(公告)日: 2014-09-10
发明(设计)人: 谭志龙;王传军;张俊敏;闻明;毕珺;沈月;宋修庆;管伟明;郭俊梅 申请(专利权)人: 贵研铂业股份有限公司
主分类号: C23C14/34 分类号: C23C14/34;C23C14/14;B22F9/08;B22F3/16
代理公司: 昆明今威专利商标代理有限公司 53115 代理人: 赛晓刚
地址: 650106 云南省昆明市高新*** 国省代码: 云南;53
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摘要: 发明公开了一种大尺寸钌基合金溅射靶材及其制备方法,钌基合金靶材包括Al,Co,Cr等元素中的一种或几种,其余为Ru,钌基合金靶材为圆饼状,其直径不小于100mm,致密度不低于99.5%,且其中心区域与边缘区域的致密度差不超过0.3%,且Ru与其他合金元素形成的第二相均匀的分布在Ru基体相中。所述的钌基合金溅射靶材的制备方法,包括通过气体雾化法制备熔点偏低的脆性相钌基合金粉末,再通过气流磨处理该脆性相获得了细小均匀的合金粉末,最后经粉末烧结制备出直径尺寸在100mm以上的钌基合金靶材,本发明获得的合金靶材杂质含量低,致密度高且均匀,成份分布均匀,晶粒细小均匀,使用该靶材溅射成膜的厚度均匀性,性能稳定以及减少了溅射过程的异常放电现象等。
搜索关键词: 一种 尺寸 合金 溅射 及其 制备 方法
【主权项】:
一种钌基合金溅射靶材,其特征在于:所述钌基合金靶材包括Al,Co,Cr等元素中的一种或几种,其余为Ru,所述钌基合金靶材为圆饼状,其直径不小于100mm,致密度不低于99.5%,且其中心区域与边缘区域的致密度差不超过0.3%,且Ru与其他合金元素形成的第二相均匀的分布在Ru基体相中,所述钌溅射靶中C含量不大于50ppm,O含量不大于100ppm,Zr含量不大于50ppm,Fe含量不大于30ppm。 
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