[发明专利]测量方法、载台装置、及曝光装置无效
| 申请号： | 201410271092.7 | 申请日： | 2008-07-16 |
| 公开（公告）号： | CN104111589A | 公开（公告）日： | 2014-10-22 |
| 发明（设计）人： | 荒井大 | 申请（专利权）人： | 株式会社尼康 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 11019 | 代理人： | 寿宁 |
| 地址： | 日本东京都千代*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一能减低周围气体的折射率变动的影响、以提高载台的定位精度等的曝光装置。一种曝光装置，是通过投影光学系统(PL)对晶圆载台(WST)上的晶圆(W)照射曝光用照明光，而在晶圆(W)形成既定图案。该曝光装置具备：设置于晶圆载台(WST)的标尺；用以检测该标尺的位置资讯的多个X读头(66)；一体支撑多个X读头(66)，且线膨胀系数较晶圆载台(WST)的本体部小的测量框架(21)；从多个X读头(66)的检测结果求出晶圆载台(WST)的位移资讯的控制装置。 | ||
| 搜索关键词： | 测量方法 装置 曝光 | ||
【主权项】：
一种用于以照明光曝光基板的曝光装置，该装置包含:投影光学系统，用于将该照明光投影到排列在该投影光学系统下方的该基板上；复数个光栅构件，各自具有反射型光栅部分，其排列成实质上平行于垂直该投影光学系统的光轴的既定面；基座构件，排列在相对于该光栅部分的该复数个光栅构件的相对侧，并且该光栅构件固定于该基座构件；支撑构件，配置成支撑该基座构件，使得该复数个光栅构件在平行于该既定面的方向中为可移动的；载台，用于支撑该基板并且在被固定于该基座构件的该复数个光栅构件之下为可移动的；以及测量元件，具有设在该载台处的复数个检测构件，复数个检测构件中的各者被配置成从该光栅部分下方发射光束至该光栅部分，以便获取该载台的位置资讯。
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