[发明专利]一种改善带状离子束均匀性的装置在审
| 申请号： | 201410273593.9 | 申请日： | 2014-06-18 |
| 公开（公告）号： | CN105206492A | 公开（公告）日： | 2015-12-30 |
| 发明（设计）人： | 石庆球;裴雷洪;严骏 | 申请（专利权）人： | 上海华力微电子有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/317 | 分类号： | H01J37/317;H01J37/30;H01J37/06 |
| 代理公司： | 上海申新律师事务所 31272 | 代理人： | 吴俊 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种改善带状离子束均匀性的装置，包括：单体双发射电子枪，其设置于一带状离子束的上侧；单电子枪，其设置于所述单体双发射电子枪的相向位置并位于带状离子束下侧；其中，带状离子束由一离子注入机的离子源产生，通过带状离子束上侧的单体双发射电子枪与下侧的单电子枪共同发射电子束，使电子束中的电子均匀附在带状离子束周围。该装置通过在带状离子束上下两侧分别设有单体双发射电子枪和单电子枪，使电子更加均与的附在带状离子束表面周围，从而在后续的工艺中通过离子注入进一步的改善了产品的质量，提高了生产的效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 改善 带状 离子束 均匀 装置 | ||
【主权项】：
一种改善带状离子束均匀性的装置，其特征在于，所述装置包括：一单体双发射电子枪，所述单体双发射电子枪设置于一带状离子束的上侧；一单电子枪，所述单电子枪设置于所述单体双发射电子枪的相向位置并位于所述带状离子束下侧；其中，所述带状离子束由一离子注入机的离子源产生，通过带状离子束上侧的单体双发射电子枪与下侧的单电子枪共同发射电子束，使电子束中的电子均匀附在所述带状离子束周围。
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