[发明专利]一种提高低气压等离子体喷涂沉积率的方法在审
申请号: | 201410275216.9 | 申请日: | 2014-06-19 |
公开(公告)号: | CN105220104A | 公开(公告)日: | 2016-01-06 |
发明(设计)人: | 朱华;李向阳;王鹏飞;黄佳华 | 申请(专利权)人: | 成都真火科技有限公司 |
主分类号: | C23C4/134 | 分类号: | C23C4/134 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 610000 四川省成都市高*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 一种提高低气压等离子体喷涂沉积率的方法,是涉及低气压等离子喷涂的改进。本发明以层流等离子体作为喷涂热源,以电场作为辅助来提高等离子喷涂的沉积率。层流等离子体射流稳定且有效高温区长,能够增加粉体颗粒的熔化时间;层流等离子体束对电场有约束作用,使得层流等离子体束区域的电场强度增加,其中的熔滴颗粒更加容易荷电,并且约束熔滴颗粒的飞行状态,使熔滴颗粒在到达基底时获得优化的速度与角度,同时在库仑力作用下减少熔滴颗粒与基底碰撞时的飞溅损失,进而提高喷涂沉积率。 | ||
搜索关键词: | 一种 提高 气压 等离子体 喷涂 沉积 方法 | ||
【主权项】:
一种提高低气压下等离子体喷涂沉积率的方法,其特征在于所使用的热源为层流等离子体,电场作为辅助。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C4-00 熔融态覆层材料喷镀法,例如火焰喷镀法、等离子喷镀法或放电喷镀法的镀覆
C23C4-02 .待镀材料的预处理,例如为了在选定的表面区域镀覆
C23C4-04 .以镀覆材料为特征的
C23C4-12 .以喷镀方法为特征的
C23C4-18 .后处理
C23C4-14 ..用于长形材料的镀覆
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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