[发明专利]投影取像架构在审

专利信息
申请号: 201410275840.9 申请日: 2014-06-19
公开(公告)号: CN105212893A 公开(公告)日: 2016-01-06
发明(设计)人: 游进洲;陈俊民;廖政顺 申请(专利权)人: 尚立光电股份有限公司;新华科技有限公司
主分类号: A61B5/00 分类号: A61B5/00
代理公司: 北京龙双利达知识产权代理有限公司 11329 代理人: 肖鹂;王君
地址: 中国台湾台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明公开一种投影取像架构至少包含侦测光源、偏振分光镜、投影单元、处理单元及影像感测单元。其中侦测光源用以提供侦测光线投射至物体以产生影像光线。此影像光线经由影像感测单元感测后,且处理单元对此影像光线进行影像处理以产生影像,利用投影单元将物体的影像投影至物体上。
搜索关键词: 投影 架构
【主权项】:
一种投影取像架构,包含:侦测光源,用以提供侦测光线;偏振分光镜,配置于所述侦测光线的传递路径上,用以反射所述侦测光线;投影单元,进一步反射经由所述偏振分光镜反射的所述侦测光线,使得所述侦测光线穿透所述偏振分光镜后经由镜头投射至物体以产生影像光线;处理单元;以及影像感测单元,通过所述处理单元电性连接于所述投影单元,其中所述影像光线经由所述镜头射至所述偏振分光镜,以通过所述偏振分光镜反射所述影像光线至所述影像感测单元,且所述处理单元对所述影像光线进行影像处理以产生影像,利用所述投影单元将所述物体的所述影像经由所述镜头投影至所述物体上。
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