[发明专利]一种版图设计方法和版图设计系统有效
| 申请号： | 201410276868.4 | 申请日： | 2014-06-19 |
| 公开（公告）号： | CN105224702B | 公开（公告）日： | 2019-01-22 |
| 发明（设计）人： | 樊强;李雪 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 |
| 主分类号： | G06F17/50 | 分类号： | G06F17/50 |
| 代理公司： | 北京市磐华律师事务所 11336 | 代理人： | 高伟;赵礼杰 |
| 地址： | 201203 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种版图设计方法和版图设计系统，涉及集成电路设计及制造技术领域。本发明的版图设计方法，包括冗余通孔填充、版图合并、调用PDK中的DRC编码进行DRC验证、去除DRC验证错误等步骤，可以降低建立冗余通孔填充方案的工作负载、提高版图设计的效率，提高产品良率，从而从多方面降低成本。本发明的版图设计系统，包括冗余通孔填充模块、版图合并模块、DRC验证模块以及版图操作模块等独立的模块，该模块化的冗余通孔填充方案直接调用PDK中的DRC编码进行DRC验证而不需为了和冗余通孔填充整合成一个文件而大量修改PDK DRC编码，可以降低工作量，该方案还可以使各个模块自由组合，从而使客户可以根据自身软件许可进行自由搭配，降低使用成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 版图 设计 方法 系统 | ||
【主权项】：
1.一种版图设计方法，其特征在于，所述方法包括：步骤S101：提供原始版图文件，对所述原始版图文件进行冗余通孔填充以形成包括冗余通孔的第二版图文件；步骤S102：将所述第二版图文件与所述原始版图文件合并以形成第三版图文件；步骤S103：对所述第三版图文件进行DRC验证，其中所述DRC验证直接调用PDK中的DRC编码并根据验证结果输出包含DRC错误的第四版图文件；步骤S104：将所述第四版图文件中的DRC错误从所述第二版图文件中通过版图操作去除以形成第五版图文件，并将所述第五版图文件与所述原始版图文件合并以形成第六版图文件。
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