[发明专利]TiWAlN硬质薄膜及制备方法有效
| 申请号： | 201410282805.X | 申请日： | 2014-06-23 |
| 公开（公告）号： | CN104073770B | 公开（公告）日： | 2016-10-19 |
| 发明（设计）人： | 喻利花;许俊华;董鴻志 | 申请（专利权）人： | 江苏科技大学 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/06 |
| 代理公司： | 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 | 代理人： | 楼高潮 |
| 地址： | 212003 *** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本文发明公开了一种TiWAlN硬质薄膜及其制备方法，是以高纯Ti靶、W靶、Al靶为靶材，采用双靶共焦射频反应溅射法沉积在硬质合金或陶瓷基体上的，薄膜分子式表示为Ti(W，Al，N)，厚度在1‑3μm；沉积时，真空度优于3.0×10‑5Pa，以氩气起弧，氮气为反应气体进行沉积，溅射气压0.3Pa，氩氮流量比10:(1‑3)；Ti靶溅射功率230‑280W，W靶溅射功率80‑100W，Al靶溅射功率为0‑100W。所得硬质涂层综合具备了高硬度，高耐磨性的优良特点。 | ||
| 搜索关键词： | tiwaln 硬质 薄膜 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种TiWAlN硬质薄膜的制备方法，其特征在于，以Ti靶、W靶、Al靶为靶材，利用双靶共焦射频反应溅射法在硬质合金或陶瓷基体上沉积得到,薄膜分子式表示为Ti(W，Al，N)，厚度在1‑3μm；当Ti靶功率250W，W靶功率为90W，Al靶功率为75W时，薄膜具有最佳的硬度、最佳的摩擦磨损性能；沉积时，真空度优于3.0×10‑5Pa，以氩气起弧，氮气为反应气体进行沉积，溅射气压0.3Pa，氩氮流量比10:(1‑3)
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