[发明专利]一种具有高空穴浓度的P-GaN蓝光LED外延结构有效
申请号: | 201410285900.5 | 申请日: | 2014-06-25 |
公开(公告)号: | CN105304780A | 公开(公告)日: | 2016-02-03 |
发明(设计)人: | 田宇;余登永;郑建钦;曾欣尧;童敬文;吴东海;李鹏飞 | 申请(专利权)人: | 南通同方半导体有限公司;同方股份有限公司 |
主分类号: | H01L33/14 | 分类号: | H01L33/14 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 100083 北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 一种具有高空穴浓度的P-GaN蓝光LED外延结构,涉及发光二极管外延技术领域。本发明从下至上依次包括蓝宝石衬底、AlN缓冲层、U型GaN层、N型GaN层、有源区、电子阻挡层和P型GaN层。其结构特点是,所述P型GaN层从下至上依次包括交替生长的AlxGa1-xN层和MgN-In层,位于最顶层的MgN-In层上方置有P-AlGaN层。同现有技术相比,本发明具有较高的势垒高度,使载流子更容易跃迁到有源区,能够有效提高空穴浓度和迁移率,改善晶体质量,从而提高LED的亮度。 | ||
搜索关键词: | 一种 具有 空穴 浓度 gan led 外延 结构 | ||
【主权项】:
一种具有高空穴浓度的P‑GaN蓝光LED外延结构,它从下至上依次包括蓝宝石衬底(1)、AlN缓冲层(2)、U型GaN层(3)、N型GaN层(4)、有源区(5)、电子阻挡层(6)和P型GaN层(7),其特征在于:所述P型GaN层(7)从下至上依次包括交替生长的AlxGa1‑xN层(8)和MgN‑In层(9),位于最顶层的MgN‑In层(9)上方置有P‑AlGaN层(10)。
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