[发明专利]一种具有高空穴浓度的P-GaN蓝光LED外延结构有效

专利信息
申请号: 201410285900.5 申请日: 2014-06-25
公开(公告)号: CN105304780A 公开(公告)日: 2016-02-03
发明(设计)人: 田宇;余登永;郑建钦;曾欣尧;童敬文;吴东海;李鹏飞 申请(专利权)人: 南通同方半导体有限公司;同方股份有限公司
主分类号: H01L33/14 分类号: H01L33/14
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 100083 北京市*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种具有高空穴浓度的P-GaN蓝光LED外延结构,涉及发光二极管外延技术领域。本发明从下至上依次包括蓝宝石衬底、AlN缓冲层、U型GaN层、N型GaN层、有源区、电子阻挡层和P型GaN层。其结构特点是,所述P型GaN层从下至上依次包括交替生长的AlxGa1-xN层和MgN-In层,位于最顶层的MgN-In层上方置有P-AlGaN层。同现有技术相比,本发明具有较高的势垒高度,使载流子更容易跃迁到有源区,能够有效提高空穴浓度和迁移率,改善晶体质量,从而提高LED的亮度。
搜索关键词: 一种 具有 空穴 浓度 gan led 外延 结构
【主权项】:
一种具有高空穴浓度的P‑GaN蓝光LED外延结构,它从下至上依次包括蓝宝石衬底(1)、AlN缓冲层(2)、U型GaN层(3)、N型GaN层(4)、有源区(5)、电子阻挡层(6)和P型GaN层(7),其特征在于:所述P型GaN层(7)从下至上依次包括交替生长的AlxGa1‑xN层(8)和MgN‑In层(9),位于最顶层的MgN‑In层(9)上方置有P‑AlGaN层(10)。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于南通同方半导体有限公司;同方股份有限公司,未经南通同方半导体有限公司;同方股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201410285900.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top