[发明专利]一种无需搭桥的投射式电容屏及其制作方法有效
申请号: | 201410293012.8 | 申请日: | 2014-06-25 |
公开(公告)号: | CN104049825B | 公开(公告)日: | 2018-08-03 |
发明(设计)人: | 向火平 | 申请(专利权)人: | 四川点燃科技有限公司 |
主分类号: | G06F3/044 | 分类号: | G06F3/044 |
代理公司: | 深圳市瑞方达知识产权事务所(普通合伙) 44314 | 代理人: | 张秋红 |
地址: | 644000 四川省宜宾市*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 本发明公开了一种无需搭桥的投射式电容屏及其制作方法。该无需搭桥的投射式电容屏包括玻璃基板、设置于玻璃基板的第一消影层、设置于第一消影层的第一ITO层、设置于第一ITO层上方的第二消影层和设置于第二消影层上方的第二ITO层;第一ITO层包括由若干X轴方向电极形成的X轴电极层,第二ITO层包括由若干Y轴方向电极形成的Y轴电极层;无需搭桥的投射式电容屏还包括设置于X轴电极层边缘的X金属线和设置于Y轴电极层边缘的Y金属线,X金属线与Y金属线分别与柔性线路板相连。该无需搭桥的投射式电容屏结构轻薄,消影效果良好,且其制作过程中无需搭桥工艺,有利于节省制作工艺。 | ||
搜索关键词: | 一种 无需 搭桥 投射 电容 及其 制作方法 | ||
【主权项】:
1.一种无需搭桥的投射式电容屏,其特征在于:包括玻璃基板(1)、设置于所述玻璃基板(1)的第一消影层(2)、设置于所述第一消影层(2)的第一ITO层(3)、设置于所述第一ITO层(3)上方的第二消影层(4)和设置于所述第二消影层(4)上方的第二ITO层(5);所述第一消影层(2)包括先后叠加在所述玻璃基板(1)上的五氧化二铌层或者氮氧化硅和二氧化硅层;所述第二消影层(4)可以包括先后叠加在所述第一ITO层(3)上的五氧化二铌层或者氮氧化硅和二氧化硅层;所述第一ITO层(3)包括由若干X轴方向电极形成的X轴电极层,所述第二ITO层(5)包括由若干Y轴方向电极形成的Y轴电极层;所述无需搭桥的投射式电容屏还包括设置于所述X轴电极层边缘的、与所述X轴电极层相连的X金属线(7)和设置于所述Y轴电极层边缘的、与所述Y轴电极层相连的Y金属线(8),所述X金属线(7)与所述Y金属线(8)分别与柔性线路板相连。
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