[发明专利]用于光刻的组合物和方法有效
| 申请号： | 201410310502.4 | 申请日： | 2007-03-12 |
| 公开（公告）号： | CN104407501B | 公开（公告）日： | 2022-03-25 |
| 发明（设计）人： | M·K·噶拉格尔;D·王 | 申请（专利权）人： | 罗门哈斯电子材料有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/095 | 分类号： | G03F7/095;G03F7/11;G03F7/004;G03F7/039;G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 樊云飞 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种涂敷过的基片和一种处理光刻胶组合物的方法。所述涂敷过的基片包括：位于基片上的光刻胶组合物层；位于该光刻胶层上面的有机组合物，该有机组合物包含含有一种或多种亲水基团的共聚物树脂；所述处理光刻胶组合物的方法包括：(a)在基片上施涂光刻胶组合物；(b)在所述光刻胶组合物上面施涂有机组合物，该有机组合物包含含有一种或多种亲水基团的共聚物树脂；(c)将所述光刻胶层曝光于辐射，活化光刻胶组合物。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 光刻 组合 方法 | ||
【主权项】：
一种涂敷过的基片，该基片包括：位于基片上的光刻胶组合物层；位于该光刻胶层上面的有机组合物，该有机组合物包含含有一种或多种亲水基团的共聚物树脂。
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