[发明专利]图像传感器及其形成方法在审
申请号: | 201410314743.6 | 申请日: | 2014-07-03 |
公开(公告)号: | CN104112754A | 公开(公告)日: | 2014-10-22 |
发明(设计)人: | 李杰 | 申请(专利权)人: | 格科微电子(上海)有限公司 |
主分类号: | H01L27/146 | 分类号: | H01L27/146;H04N5/374 |
代理公司: | 北京戈程知识产权代理有限公司 11314 | 代理人: | 程伟;王刚 |
地址: | 201203 上海市*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明提供一种图像传感器及其形成方法,所述图像传感器包括:第一导电类型的半导体衬底、光电二极管、浮置扩散区、转移晶体管、复位晶体管和源跟随晶体管,所述源跟随晶体管包括位于所述半导体衬底表面的第一导电类型多晶半导体栅电极、位于半导体衬底内的第二导电类型源极和位于半导体衬底内的第二导电类型漏极。本发明在不改变电路结构的基础上,通过采用P型多晶硅作为栅电极的埋沟NMOS晶体管作为源跟随晶体管,由于P型多晶硅的功函数比N型多晶硅的功函数大1V,使得后续电路的对应的像素阵列的列电压低大约1V左右,从而降低了后续模数转换等信号处理的过程的中固定模式噪声,提高了图像的质量。 | ||
搜索关键词: | 图像传感器 及其 形成 方法 | ||
【主权项】:
一种图像传感器,所述图像传感器包括: 第一导电类型的半导体衬底、光电二极管、浮置扩散区、转移晶体管、复位晶体管和源跟随晶体管, 其中所述源跟随晶体管包括位于所述半导体衬底表面的第一导电类型多晶半导体栅电极、位于半导体衬底内的第二导电类型源极和位于半导体衬底内的第二导电类型漏极。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
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