[发明专利]一种铜蚀刻液以及制作印制电路板的方法在审

专利信息
申请号: 201410318805.0 申请日: 2014-07-04
公开(公告)号: CN104562013A 公开(公告)日: 2015-04-29
发明(设计)人: 张双庆;胡钢 申请(专利权)人: 广东丹邦科技有限公司
主分类号: C23F1/34 分类号: C23F1/34
代理公司: 深圳新创友知识产权代理有限公司 44223 代理人: 江耀纯
地址: 523808 广东省东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种铜蚀刻液以及制作印制电路板的方法,所述铜蚀刻液用于对柔性印制电路板进行铜蚀刻以形成线路图案,该铜蚀刻液包括以下组分:铜离子:70-110g/L;氯离子:2.0-5.0mol/L;络合剂:2.5-5.5mol/L;N-甲基-2-巯基咪唑:0.1-2.0g/L;且所述铜蚀刻液的PH值为7.5-9.5。铜蚀刻液,可以有效防止线路蚀刻过程中出现的侧蚀现象,在蚀刻后产生规整的矩形线路图案,减少线路间的断路情况,同时还能提高蚀刻速率。
搜索关键词: 一种 蚀刻 以及 制作 印制 电路板 方法
【主权项】:
一种铜蚀刻液,其特征在于,包括以下组分:铜离子:70‑110g/L;氯离子:2.0‑5.0mol/L;络合剂:2.5‑5.5mol/L;N‑甲基‑2‑巯基咪唑:0.1‑2.0g/L;且所述铜蚀刻液的PH值为7.5‑9.5。
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