[发明专利]半导体器件有效
申请号: | 201410327875.2 | 申请日: | 2014-07-10 |
公开(公告)号: | CN104282690B | 公开(公告)日: | 2018-12-25 |
发明(设计)人: | 中岛荣 | 申请(专利权)人: | 瑞萨电子株式会社 |
主分类号: | H01L27/06 | 分类号: | H01L27/06 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人: | 李兰;孙志湧 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及一种半导体器件。半导体器件包括N型半导体区域、背电极、第一和第二P型基区、第一和第二N+扩散层、栅极绝缘膜、栅电极和电压检测电路。第一N+扩散层用作输出MOS晶体管的源极并且用作感测MOS晶体管的源极。栅电极被提供为通过栅极绝缘膜40与N型半导体区域和第一及第二P型基区相对。负载电流在背电极和第一N+扩散层之间流动。电压检测电路生成检测信号。 | ||
搜索关键词: | 半导体器件 | ||
【主权项】:
1.一种半导体器件,用于将负载电流供应给负载,所述半导体器件包括:第一导电类型的第一半导体区域;共用漏电极,所述共用漏电极与所述第一半导体区域电连接;第二半导体区域,所述第二半导体区域与所述第一半导体区域接合,并且为不同于所述第一导电类型的第二导电类型;第一扩散层,所述第一扩散层被形成在所述第二半导体区域中,被重掺杂有所述第一导电类型的杂质,并且用作第一晶体管的源极;所述第二导电类型的第三半导体区域,所述第三半导体区域与所述第一半导体区域接合;第二扩散层,所述第二扩散层被形成在所述第三半导体区域中,被重掺杂有所述第一导电类型的杂质,并且用作第二晶体管的源极;栅极绝缘膜;栅电极,所述栅电极被布置成经由所述栅极绝缘膜,与所述第一半导体区域、所述第二半导体区域以及所述第三半导体区域相对;以及电压检测电路,其中,所述负载电流在所述共用漏电极和所述第一扩散层之间流动,并且其中,所述电压检测电路响应于在所述第二扩散层和电压取出电极之间的电压,来生成检测信号,所述电压取出电极被形成为具有与所述共用漏电极的电压相同的电压或与所述共用漏电极的电压对应的电压。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于瑞萨电子株式会社,未经瑞萨电子株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201410327875.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种生物酶法从大豆粕中提取大豆多糖的方法
- 下一篇:一种新型的明渠流量计
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的