[发明专利]研磨装置及研磨状态监视方法有效
申请号: | 201410330519.6 | 申请日: | 2014-07-11 |
公开(公告)号: | CN104275642B | 公开(公告)日: | 2018-08-07 |
发明(设计)人: | 小林洋一;渡边和英;盐川阳一;八木圭太;木下将毅 | 申请(专利权)人: | 株式会社荏原制作所 |
主分类号: | B24B37/04 | 分类号: | B24B37/04;B24B49/12;H01L21/304 |
代理公司: | 上海市华诚律师事务所 31210 | 代理人: | 梅高强;刘煜 |
地址: | 日本国东京都*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 一种研磨装置,具有:对处于静止状态的基板的膜厚进行测量的在线型膜厚测量器(80);以及具有配置在研磨台(30A)内的膜厚传感器(40)的原位分光式膜厚监视器(39)。原位分光式膜厚监视器(39),从研磨基板前由在线型膜厚测量器(80)取得的初期膜厚中,减去研磨基板前由原位分光式膜厚监视器(39)取得的初期膜厚,由此确定补正值,对研磨基板中取得的膜厚加上补正值,由此取得监视膜厚,基于监视膜厚而监视基板的研磨进度。采用本发明,研磨装置能实现高精度的精加工性能。 | ||
搜索关键词: | 研磨 装置 状态 监视 方法 | ||
【主权项】:
1.一种研磨装置,其特征在于,具有:对研磨垫进行支承的研磨台;将基板按压到所述研磨垫上的顶环;以及原位分光式膜厚监视器,所述原位分光式膜厚监视器具有配置在所述研磨台内的膜厚传感器,所述原位分光式膜厚监视器将光照射在基板上,生成来自该基板的反射光的光谱,抽取所述光谱中来自所述基板的划线的反射光的光谱,用所述抽取的光谱来确定所述基板的旋转角度,并根据所述光谱来确定膜厚。
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