[发明专利]薄膜沉积装置和使用该薄膜沉积装置的薄膜沉积方法在审
| 申请号： | 201410331197.7 | 申请日： | 2014-07-11 |
| 公开（公告）号： | CN104419892A | 公开（公告）日： | 2015-03-18 |
| 发明（设计）人： | 李在哲 | 申请（专利权）人： | 三星显示有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/12;C23C14/24 |
| 代理公司： | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人： | 刘灿强;谭昌驰 |
| 地址： | 韩国京畿*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 提供了一种薄膜沉积装置和使用该薄膜沉积装置的薄膜沉积方法。该薄膜沉积装置包括：掩模，与基底的第一表面接触；磁板，在基底的第二表面上方，并且被构造成将掩模拉向基底的第一表面，基底的第二表面是与第一表面相反的表面；绝缘构件，在基底的第二表面与磁板之间。 | ||
| 搜索关键词： | 薄膜 沉积 装置 使用 方法 | ||
【主权项】：
一种薄膜沉积装置，其特征在于，包括：掩模，与基底的第一表面接触；磁板，在基底的第二表面上方，并且被构造成将掩模拉向基底的第一表面，基底的第二表面是与第一表面相反的表面；以及绝缘构件，在基底的第二表面与磁板之间。
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