[发明专利]一种在石墨烯薄膜上剥离外延材料的方法无效
申请号: | 201410332170.X | 申请日: | 2014-07-11 |
公开(公告)号: | CN104099662A | 公开(公告)日: | 2014-10-15 |
发明(设计)人: | 赵云;王钢;魏同波;段瑞飞;孙连峰;王军喜;李晋闽 | 申请(专利权)人: | 中国科学院半导体研究所 |
主分类号: | C30B25/18 | 分类号: | C30B25/18;C23C16/01 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 宋焰琴 |
地址: | 100083 *** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种在石墨烯薄膜上剥离外延材料的方法,包括以下步骤:步骤1、提供一表面有石墨烯薄膜的基底,所述石墨烯薄膜层数≥2,且所述石墨烯薄膜是直接生长于基底上或者是经过1次或多次转移到基底上的;步骤2、在所述石墨烯薄膜上直接外延生长材料;步骤3、剥离所述外延材料,所述剥离发生在石墨烯薄膜间或者是石墨烯薄膜与基底之间。本发明利用石墨烯薄膜完美的六元环结构,能够实现在石墨烯薄膜上直接外延生长材料并使外延材料剥离,为解决异质外延及当中剥离的难题提供了方案。 | ||
搜索关键词: | 一种 石墨 薄膜 剥离 外延 材料 方法 | ||
【主权项】:
一种在石墨烯薄膜上剥离外延材料的方法,包括以下步骤:步骤1、提供一表面有石墨烯薄膜的基底,所述石墨烯薄膜层数≥2,且所述石墨烯薄膜是直接生长于基底上或者是经过1次或多次转移到基底上的;步骤2、在所述石墨烯薄膜上直接外延生长材料;步骤3、剥离所述外延材料,所述剥离发生在石墨烯薄膜间或者是石墨烯薄膜与基底之间。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院半导体研究所,未经中国科学院半导体研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201410332170.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。