[发明专利]用于弯曲对象的表面处理设备有效
| 申请号： | 201410335028.0 | 申请日： | 2014-07-15 |
| 公开（公告）号： | CN104797070B | 公开（公告）日： | 2017-05-10 |
| 发明（设计）人： | 全炳俊 | 申请（专利权）人： | MAK股份有限公司 |
| 主分类号： | H05H1/24 | 分类号： | H05H1/24 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司72002 | 代理人： | 王永建 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于弯曲对象的表面处理设备。该设备包括高电压电极单元，其包括沿着向下凸的弯曲表面布置的多个杆形高电压电极，所述弯曲表面的曲率对应于弯曲对象的曲率；壳体，其在与高电压电极单元间隔开的位置覆盖高电压电极单元的上部；等离子体发射单元，其设置在壳体以下并接地，并放射状地发射已穿过高电压电极单元的等离子体；反应气体供应单元，其安装在壳体中，并将反应气体供应至其中设置有高电压电极单元的空间中；以及冷却单元，其设置在壳体的中心部分中，并被构造为按照冷却剂循环通过冷却单元的方式使壳体和高电压电极单元冷却。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 弯曲 对象 表面 处理 设备 | ||
【主权项】：
一种用于弯曲对象的表面处理设备，包括：高电压电极单元，其包括沿着向下凸的弯曲表面布置的多个杆形高电压电极，所述弯曲表面的曲率对应于待处理的弯曲对象的曲率；壳体，其在与高电压电极单元间隔开的位置覆盖高电压电极单元的上部；等离子体发射单元，其设置在壳体下部以下并接地，等离子体发射单元形成包围高电压电极单元的向下凸的弯曲表面，等离子体发射单元具有与弯曲对象的曲率相同的曲率，并放射状地发射已穿过高电压电极单元的等离子体，并且具有按照规则间隔排列的多个等离子体发射孔；反应气体供应单元，其安装在壳体中，反应气体供应单元将反应气体供应至其中设置有高电压电极单元的空间中；以及冷却单元，其设置在壳体的中心部分中，冷却单元被构造为按照冷却剂循环通过冷却单元的方式使壳体和高电压电极单元冷却。
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