[发明专利]一种高平整度的低辐射镀膜玻璃制品及其制备方法

摘要

本发明公开了一种高平整度的低辐射镀膜玻璃制品，包括玻璃基板，其主表面上支承有多层溅射层，所述溅射层自玻璃基板向外依次包括第一电介质层、第一保护层、低辐射层、第二保护层、第二电介质层；其中，第一、第二电介质层为TiAl_xMg_yO_z，x=0.01~0.1，y=0~0.05，2.015≤z≤2.2；第一、第二保护层为Ni层或NiCr合金层；低辐射层为Ag层或Au层。电介质层由于掺有Al₂O₃或Al₂O₃和MgO，从而提高了电介质层对可见光的透过性，提高了低辐射镀膜玻璃的透明性。本发明还公开其制备方法，该制备方法选用TiAl或TiAlMg合金为靶材溅射电介质层，靶材中所含的Al、或Al和Mg可以提高Ti靶的磁导率，从而提高电介质层溅射的均匀性，提高膜层的均匀性。

主权项

 一种高平整度的低辐射镀膜玻璃制品，其特征在于，包括玻璃基板，其主表面上支承有多层溅射层，所述溅射层自玻璃基板向外依次包括第一电介质层、第一保护层、低辐射层、第二保护层、第二电介质层；其中，第一、第二电介质层为TiAl_xMg_yO_z，x=0.01~0.1，y=0~0.05，2.015≤z≤2.2；第一、第二保护层为Ni层或NiCr合金层；低辐射层为Ag层或Au层。