[发明专利]原子荧光光谱法测定工业电积铜中痕量元素砷、硒的方法在审
| 申请号： | 201410340815.4 | 申请日： | 2014-07-17 |
| 公开（公告）号： | CN104076018A | 公开（公告）日： | 2014-10-01 |
| 发明（设计）人： | 马得莉;王学虎;王冬珍;陈化玲;吕彦玲;陈瑾霞 | 申请（专利权）人： | 白银有色集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G01N21/64 | 分类号： | G01N21/64 |
| 代理公司： | 甘肃省知识产权事务中心 62100 | 代理人： | 张克勤 |
| 地址： | 730900 甘*** | 国省代码： | 甘肃;62 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种原子荧光光谱法测定工业电积铜中痕量元素砷、硒的方法，包括以下步骤：A、配制工业电积铜细屑样品的溶液；B、配制标准砷溶液和标准硒溶液；C、用标准砷溶液和标准硒溶液配制工作曲线溶液；D、用原子荧光光度计测定工作曲线溶液中砷、硒的原子荧光强度，以砷、硒的质量浓度为横坐标，以砷、硒的荧光强度为纵坐标，绘制工作曲线；E、用原子荧光光度计测定样品溶液的原子荧光强度，用样品溶液中砷、硒的原子荧光强度在相应的工作曲线上查出相应元素砷、硒的质量浓度。本发明使用硝酸、盐酸、碘化钾和硫脲--抗坏血酸处理样品能够掩蔽共存离子Cu、Fe、Ag、Bi、Se等干扰及组合的影响，还能消除铜基体本身对砷、硒测量的影响。 | ||
| 搜索关键词： | 原子 荧光 光谱 测定 工业 电积铜中 痕量 元素 方法 | ||
【主权项】：
一种原子荧光光谱法测定工业电积铜中痕量元素砷、硒的方法，其特征在于：包括以下步骤：A、配制工业电积铜细屑样品的溶液；B、配制标准砷溶液和标准硒溶液；C、用标准砷溶液和标准硒溶液配制工作曲线溶液；D、用原子荧光光度计测定工作曲线溶液中砷、硒的原子荧光强度，以砷、硒的质量浓度为横坐标，以砷、硒的荧光强度为纵坐标，绘制工作曲线；E、用原子荧光光度计测定样品溶液的原子荧光强度，用样品溶液中砷、硒的原子荧光强度在相应的工作曲线上查出相应元素砷、硒的质量浓度；F、根据下式计算试样中元素砷、硒的质量百分数w，数值以%表示：![]()
式中：ρ—测定试样溶液中元素砷、硒的质量浓度，单位为每毫升微克；ν—测定试样溶液体积，单位毫升；m—试样质量，单位克。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于白银有色集团股份有限公司，未经白银有色集团股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201410340815.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
