[发明专利]一种微球聚合物涂层制备装置无效
申请号: | 201410355087.4 | 申请日: | 2014-07-24 |
公开(公告)号: | CN104131269A | 公开(公告)日: | 2014-11-05 |
发明(设计)人: | 何智兵;何小珊;许华;李俊;李玉红;陈志梅 | 申请(专利权)人: | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 |
主分类号: | C23C16/517 | 分类号: | C23C16/517;C23C16/458 |
代理公司: | 中国工程物理研究院专利中心 51210 | 代理人: | 翟长明 |
地址: | 621999 四*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 本发明提供一种微球聚合物涂层制备装置,所述的装置包括进气管、射频屏蔽罩、电感线圈、石英谐振腔、真空室。石英谐振腔位于电感线圈中,电感线圈位于射频屏蔽罩中,进气管与石英谐振腔连接,石英谐振腔与真空室连接,真空室内设有样品架、样品升降台、敲击杆。本发明应用于激光惯性约束聚变领域靶丸烧蚀层材料的制备,具有能实现微球聚合物涂层厚度可控、微球聚合物涂层单层及多层掺杂等特点。 | ||
搜索关键词: | 一种 聚合物 涂层 制备 装置 | ||
【主权项】:
一种微球聚合物涂层制备装置,包括进气管(1)、射频屏蔽罩(2)、电感线圈(3)、石英谐振腔(4)、真空室(8);其特征在于:石英谐振腔(4)位于电感线圈(3)中,电感线圈(3)位于射频屏蔽罩(2)中;电感线圈(3)两引线从装置顶端的接线柱引出,与射频电源(10)相连;进气管(1)与石英谐振腔(4)连接,石英谐振腔(4)与真空室(8)连接;真空室(8)内设有样品架(5)、样品升降台(6)、敲击杆(7),样品架(5)与样品升降台(6)连接。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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