[发明专利]一种适应多种工艺类型硅片的预对准装置有效
申请号: | 201410367501.3 | 申请日: | 2014-07-29 |
公开(公告)号: | CN105336654B | 公开(公告)日: | 2017-12-29 |
发明(设计)人: | 王刚;胡松立;姜杰;路如旃;牟吉元 | 申请(专利权)人: | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/68 | 分类号: | H01L21/68 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙)31237 | 代理人: | 屈蘅,李时云 |
地址: | 201203 上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明涉及一种适应多种工艺类型硅片的预对准装置,包括吸盘底座、陶瓷吸盘、半月吸盘、线阵CCD、镜片反射光机系统及对射光机系统,陶瓷吸盘与半月吸盘均安装于吸盘底座上,陶瓷吸盘能够沿Z向做升降运动,并能够沿中心轴旋转;半月吸盘能够相对于陶瓷吸盘在水平方向上运动;镜片对所述反射光机系统、透射光机系统发出的光束分别进行反射、透射,透过镜片,在反射光机系统与透射光机系统之间切换;反射光机系统利用反射式预对准方式检测硅片边缘的信息,并经由线阵CCD收集镜片反射的硅片边缘的信息;对射光机系统利用透射式预对准方式检测硅片边缘的信息,并经由线阵CCD收集镜片透射的硅片边缘的信息。本发明能够适应多种工艺类型硅片。 | ||
搜索关键词: | 一种 适应 多种 工艺 类型 硅片 对准 装置 | ||
【主权项】:
一种适应多种工艺类型硅片的预对准装置,其特征在于,包括吸盘底座、陶瓷吸盘、半月吸盘、线阵CCD、镜片、反射光机系统以及对射光机系统,其中,所述陶瓷吸盘与半月吸盘均安装于所述吸盘底座上,所述陶瓷吸盘能够沿Z向做升降运动,并能够沿中心轴旋转;所述半月吸盘能够相对于所述陶瓷吸盘在水平方向上运动;所述镜片对所述反射光机系统、所述对射光机系统发出的光束分别进行反射、透射,透过所述镜片,在所述反射光机系统与所述对射光机系统之间切换,以适应不同工艺类型的硅片预对准检测;所述反射光机系统利用反射式预对准方式检测硅片边缘的信息,并经由所述线阵CCD收集所述镜片反射的所述硅片边缘的信息;所述对射光机系统利用透射式预对准方式检测硅片边缘的信息,并经由所述线阵CCD收集所述镜片透射的所述硅片边缘的信息。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
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