[发明专利]一种适应多种工艺类型硅片的预对准装置有效

专利信息
申请号: 201410367501.3 申请日: 2014-07-29
公开(公告)号: CN105336654B 公开(公告)日: 2017-12-29
发明(设计)人: 王刚;胡松立;姜杰;路如旃;牟吉元 申请(专利权)人: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
主分类号: H01L21/68 分类号: H01L21/68
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙)31237 代理人: 屈蘅,李时云
地址: 201203 上*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明涉及一种适应多种工艺类型硅片的预对准装置,包括吸盘底座、陶瓷吸盘、半月吸盘、线阵CCD、镜片反射光机系统及对射光机系统,陶瓷吸盘与半月吸盘均安装于吸盘底座上,陶瓷吸盘能够沿Z向做升降运动,并能够沿中心轴旋转;半月吸盘能够相对于陶瓷吸盘在水平方向上运动;镜片对所述反射光机系统、透射光机系统发出的光束分别进行反射、透射,透过镜片,在反射光机系统与透射光机系统之间切换;反射光机系统利用反射式预对准方式检测硅片边缘的信息,并经由线阵CCD收集镜片反射的硅片边缘的信息;对射光机系统利用透射式预对准方式检测硅片边缘的信息,并经由线阵CCD收集镜片透射的硅片边缘的信息。本发明能够适应多种工艺类型硅片。
搜索关键词: 一种 适应 多种 工艺 类型 硅片 对准 装置
【主权项】:
一种适应多种工艺类型硅片的预对准装置,其特征在于,包括吸盘底座、陶瓷吸盘、半月吸盘、线阵CCD、镜片、反射光机系统以及对射光机系统,其中,所述陶瓷吸盘与半月吸盘均安装于所述吸盘底座上,所述陶瓷吸盘能够沿Z向做升降运动,并能够沿中心轴旋转;所述半月吸盘能够相对于所述陶瓷吸盘在水平方向上运动;所述镜片对所述反射光机系统、所述对射光机系统发出的光束分别进行反射、透射,透过所述镜片,在所述反射光机系统与所述对射光机系统之间切换,以适应不同工艺类型的硅片预对准检测;所述反射光机系统利用反射式预对准方式检测硅片边缘的信息,并经由所述线阵CCD收集所述镜片反射的所述硅片边缘的信息;所述对射光机系统利用透射式预对准方式检测硅片边缘的信息,并经由所述线阵CCD收集所述镜片透射的所述硅片边缘的信息。
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