[发明专利]一种平面光波导的制作方法在审
| 申请号： | 201410369687.6 | 申请日： | 2014-07-30 |
| 公开（公告）号： | CN104101950A | 公开（公告）日： | 2014-10-15 |
| 发明（设计）人： | 冯春蓉;向舟翊;李朝阳 | 申请（专利权）人： | 四川飞阳科技有限公司 |
| 主分类号： | G02B6/136 | 分类号： | G02B6/136 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 王宝筠 |
| 地址： | 610209 四川省成都市双*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种平面光波导的制作方法，包括：在衬底表面形成芯层；在所述芯层表面形成金属层；在所述金属层表面形成光刻胶层，并图案化所述光刻胶层；将所述衬底水平放置在刻蚀槽内，以图案化后的光刻胶层为掩膜对所述金属层进行刻蚀，其中，所述衬底设置有所述金属层的表面朝上放置，所述金属层浸没在所述刻蚀槽内的金属刻蚀试剂内；判断对所述金属层的刻蚀是否完成，当所述刻蚀完成后，去除图案化后的光刻胶层，以刻蚀后的金属层为掩膜对所述芯层进行刻蚀，图案化所述芯层，形成预设结构的波导芯层；去除刻蚀后的金属层，在所述波导芯层表面形成保护层。所述制作方法降低了平面光波导的制作成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 平面 波导 制作方法 | ||
【主权项】：
一种平面光波导的制作方法，其特征在于，包括：在衬底表面形成芯层；在所述芯层表面形成金属层；在所述金属层表面形成光刻胶层，并图案化所述光刻胶层；将所述衬底水平放置在刻蚀槽内，以图案化后的光刻胶层为掩膜对所述金属层进行刻蚀，其中，所述衬底设置有所述金属层的表面朝上放置，所述金属层浸没在所述刻蚀槽内的金属刻蚀试剂内；判断对所述金属层的刻蚀是否完成，当所述刻蚀完成后，去除图案化后的光刻胶层，以刻蚀后的金属层为掩膜对所述芯层进行刻蚀，图案化所述芯层，形成预设结构的波导芯层；去除刻蚀后的金属层，在所述波导芯层表面形成保护层。
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