[发明专利]曝光辅助图形的优化方法

摘要

本发明公开了一种曝光辅助图形的优化方法，包括收集工艺窗口数据，建立工艺窗口OPC模型；收集SRAF参数的安全范围；设计周期渐变测试图形；基于简单规则和基于模型分别添加SRAF；得到工艺波动带宽值，并对该测试图形进行周期划分；对该测试图形的各周期区间设定工艺波动带宽上限值；分别优化各周期区间的曝光辅助图形SRAF参数；实现曝光辅助图形的规则优化。本发明能高效快捷地实现曝光辅助图形添加规则的优化，减少运算量，运行时间可以比基于模型的方式减少近60％。

主权项

1.一种曝光辅助图形的优化方法，其特征在于，其包括以下步骤：步骤S01，收集工艺窗口数据，建立工艺窗口光学邻近效应校正模型；步骤S02，收集亚分辨辅助线条在工艺窗口内未被曝光出图形的参数安全范围；步骤S03，按照光刻层次的图形特征，设计一组周期由100‑2000nm，周期变化间隔为5‑20nm的1维线或者2维孔的周期渐变测试图形；步骤S04，对于该测试图形，采用基于简单规则和基于模型两种方式分别添加亚分辨辅助线条；步骤S05，利用光学邻近效应校正结果检查程序计算出基于简单规则亚分辨辅助线条和基于模型亚分辨辅助线条的工艺波动带宽值，并将测试图形的周期划分为：按简单规则亚分辨辅助线条无法添加曝光辅助图形的周期区间A，以及简单规则亚分辨辅助线条添加的曝光辅助图形条数由N变为N+1条的多周期区间；步骤S06，以基于模型亚分辨辅助线条的工艺波动带宽值作为参考标准，设定开始添加亚分辨辅助线条的周期，并对不同周期区间工艺波动带宽设定上限值；步骤S07，分别优化各周期区间的曝光辅助图形亚分辨辅助线条参数；步骤S071，判断各周期区间的工艺波动带宽值是否均低于该设定的上限值，若是，则进入步骤S08，若否，则重复步骤S07；步骤S08，实现曝光辅助图形的规则优化。