[发明专利]进气系统及等离子体加工设备

摘要

本发明提供一种进气系统及等离子体加工设备，其包括气源、气体管路和气源温控装置，气源通过气体管路将反应气体输送至反应腔室内，并且在气体管路上设置有伴热器，用以调节气体管路的温度；气源温控装置用于调节气源的用于存储反应气体的容器的温度。本发明提供的进气系统，其通过借助气源温控装置调节气源的用于存储反应气体的容器的温度，而对进入反应腔室的反应气体温度进行控制，同时通过借助伴热器调节气体管路的温度，而起到保温以及对进入反应腔室的反应气体温度进行微调的辅助作用，可以减少管路长度、管路周围环境等因素的干扰，从而可以实现精确有效地对进入反应腔室的反应气体温度进行控制。

主权项

一种进气系统，包括气源和气体管路，所述气源通过所述气体管路将反应气体输送至反应腔室内，并且在所述气体管路上设置有伴热器，用以调节所述气体管路的温度，其特征在于，所述进气系统还包括气源温控装置，所述气源温控装置用于调节所述气源的用于存储反应气体的容器的温度，所述气源温控装置包括发热元件和环形安装件，其中所述环形安装件采用可拆卸的方式套制在所述容器的外周壁上，且所述环形安装件的内周壁面与所述容器的外周壁面相接触；所述发热元件设置在所述环形安装件的外周壁上，用以采用热交换的方式调节所述容器的温度。