[发明专利]一种调焦调平传感器测量装置

摘要

本发明公开了一种调焦调平传感器测量装置，涉及测量技术领域，用于测量带有工艺的硅片的高度形貌，该装置包括可调谐光源、测试光栅、第一成像系统、第二成像系统、参考光栅、探测器、工件台和计算机。该装置能够对于待测硅片上涂覆某种光刻胶或者具有某种结构时，自动计算测量高度对所述光刻胶或结构不敏感的光源光谱，相应调整光源的频率和带宽，以及探测器的响应范围，使调焦调平传感器的高度测量工艺相关性最小。在光刻曝光时，工件台将根据硅片形貌实时调节它的高度和倾斜，保证曝光区域保持在光刻机的对焦范围内，达到调焦调平的目的。

主权项

一种调焦调平传感器测量装置，用于对一待测硅片进行高度测量，所述其特征在于，所述待测硅片设置在一工件台上，所述待测硅片的上表面上设置有光刻胶或具有不同结构；其中，所述装置包括：可调谐光源，所述可调谐光源用于提供一定频率和带宽的光；测试光栅，用于接收来自所述可调谐光源的所述第一频率的光；第一成像系统，用于将所述测试光栅成像于所述待测硅片上；第二成像系统，用于将所述测试光栅在所述待测硅片上的像再次成像到参考光栅上；参考光栅，用于与所述测试光栅干涉形成莫尔条纹；探测器，用于记录所述莫尔条纹；计算机，所述计算机与所述探测器、所述可调谐光源连接，用于接收所述莫尔条纹，并控制所述可调谐光源和所述探测器；其中，所述计算机用于根据硅片上光刻胶或具体结构计算所述待测硅片的工艺相关性最小的光谱，并发送第一指令和第二指令，其中，所述第一指令发送给所述可调谐光源，用于调整所述可调谐光源的光谱；所述第二指令发送给所述探测器，用于调整所述探测器的响应谱段；其中，所述计算机同时用于根据所述莫尔条纹获得所述待测硅片的高度信息。