[发明专利]Cu2ZnSnS4肖特基二极管结构及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201410377497.9 申请日: 2014-08-01
公开(公告)号: CN104157704A 公开(公告)日: 2014-11-19
发明(设计)人: 何俊;张俊;孙琳;杨平雄;褚君浩 申请(专利权)人: 华东师范大学
主分类号: H01L29/872 分类号: H01L29/872;H01L29/12;H01L21/329
代理公司: 上海麦其知识产权代理事务所(普通合伙) 31257 代理人: 董红曼
地址: 200062 上*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种新的Cu2ZnSnS4肖特基二极管结构及制备方法。所述Cu2ZnSnS4肖特基二极管结构包括衬底,金属底电极层,Cu2ZnSnS4薄膜层和金属顶电极层;在所述衬底上,自下而上依次沉积所述金属底电极层、Cu2ZnSnS4薄膜层和金属顶电极层。本发明Cu2ZnSnS4肖特基二极管避免器件结构中出现大的串联电阻,从而优化肖特基二极管的理想因子,有利于提高器件的截止频率,适合应用于高频电路中。本发明所用原料丰富,价格低廉,抗辐射抗衰减能力强,稳定性好,沉积方法较为多样,衬底选择性多,使得器件结构设计比较灵活,制备工艺简单,具广泛应用前景。
搜索关键词: cu sub znsns 肖特基 二极管 结构 及其 制备 方法
【主权项】:
一种Cu2ZnSnS4肖特基二极管结构,其特征在于,其包括衬底(1),金属底电极层(2),Cu2ZnSnS4薄膜层(3)和金属顶电极层(4);其中,在所述衬底(1)上,自下而上依次沉积所述金属底电极层(2)、Cu2ZnSnS4薄膜层(3)和金属顶电极层(4)。
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