[发明专利]基于LTCC的E波段高抑制带通滤波器有效

专利信息
申请号: 201410378043.3 申请日: 2014-08-01
公开(公告)号: CN104124499B 公开(公告)日: 2017-01-25
发明(设计)人: 戴永胜;陈龙;周围;许心影;顾家 申请(专利权)人: 南京理工大学
主分类号: H01P1/208 分类号: H01P1/208
代理公司: 南京理工大学专利中心32203 代理人: 朱显国
地址: 210094 *** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种基于LTCC的E波段高抑制带通滤波器,包括三层陶瓷基板,含有两个耦合缝隙的第一金属层,含有两个耦合缝隙的第二金属层,第三金属层,八十二个金属化通孔,由八十个金属化通孔和第二层陶瓷基板、第三层陶瓷基板形成的四个谐振腔,第一谐振腔和第二谐振腔之间的第一耦合缝隙,第二谐振腔和第三谐振腔之间的第二耦合缝隙,第三谐振腔和第四谐振腔之间的第三耦合缝隙,以及第一层陶瓷基板和第一金属化通孔构成的输入端口,第一层陶瓷基板和第二金属化通孔构成的输出端口。本发明频带为E波段,具有频段频率覆盖广、插入损耗小、频率选择性好、谐波抑制特性好、电路结构简单、可控性好等突出优点,对于未来高速率数据无线通信具有有重大应用前景。
搜索关键词: 基于 ltcc 波段 抑制 带通滤波器
【主权项】:
一种基于LTCC的E波段高抑制带通滤波器,其特征在于,包括三层陶瓷基板(S1、S2、S3),含有两个耦合缝隙(C1、C2)的第一金属层(L1),含有两个耦合缝隙(C12、C34)的第二金属层(L2),第三金属层(L3),八十二个金属化通孔(V1~V82),由八十个金属化通孔(V3~V82)和第二层陶瓷基板(S2)、第三层陶瓷基板(S3)形成的四个谐振腔(R1、R2、R3、R4),第一谐振腔(R1)和第二谐振腔(R2)之间的第一耦合缝隙(C12),第二谐振腔(R2)和第三谐振腔(R3)之间的第二耦合缝隙(C23),第三谐振腔(R3)和第四谐振腔(R4)之间的第三耦合缝隙(C34),以及第一层陶瓷基板(S1)和第一金属化通孔(V1)构成的输入端口(P1),第一层陶瓷基板(S1)和第二金属化通孔(V2)构成的输出端口(P2);所述第一谐振腔(R1)由二十三个金属化通孔即第三~十七金属化通孔(V3、V4、V5、V6、V7、V8、V9、V10、V11、V12、V13、V14、V15、V16、V17)、第三十五~四十二金属化通孔(V35、V36、V37、V38、V39、V40、V41、V42)和第二层陶瓷基板(S2)、第一金属层(L1)、第二金属层(L2)形成;第二谐振腔(R2)由二十三个金属化通孔即第四十三~五十七金属化通孔(V43、V44、V45、V46、V47、V48、V49、V50、V51、V52、V53、V54、V55、V56、V57)、第七十五~八十二金属化通孔(V75、V76、V77、V78、V79、V80、V81、V82)和第三层陶瓷基板(S3)、第二金属层(L2)、第三金属层(L3)形成;第三谐振腔(R3)由二十三个金属化通孔即第五十五~七十七金属化通孔(V55、V56、V57、V58、V59、V60、V61、V62、V63、V64、V65、V66、V67、V68、V69、V70、V71、V72、V73、V74、V75、V76、V77)和第三层陶瓷基板(S3)、第二金属层(L2)、第三金属层(L3)形成;第四谐振腔(R4)由二十三个金属化通孔即第十五~三十七金属化通孔(V15、V16、V17、V18、V19、V20、V21、V22、V23、V24、V25、V26、V27、V28、V29、V30、V31、V32、V33、V34、V35、V36、V37)和第二层陶瓷基板(S2)、第一金属层(L1)、第二金属层(L2)形成;第一谐振腔(R1)和第二谐振腔(R2)通过第一耦合缝隙(C12)耦合,第二谐振腔(R2)和第三谐振腔(R3)通过第二耦合缝隙(C23)耦合,第三谐振腔(R3)和第四谐振腔(R4)通过第三耦合缝隙(C34)耦合;所述第一耦合缝隙(C12)是第一谐振腔(R1)与第二个谐振腔(R2)之间的耦合缝隙,且第一耦合缝隙(C12)为设置于第二金属层(L2)的圆形缝隙;第二耦合缝隙(C23)是第五十五~五十七金属化通孔(V55、V56、V57)与第七十五~七十七金属化通孔(V75、V76、V77)之间的缝隙;第三耦合缝隙(C34)是第三谐振腔(R3)与第四谐振腔(R4)之间的耦合缝隙,且第三耦合缝隙(C34)为设置于第二层金属层(L2)的两个对称长方形缝隙。
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