[发明专利]一种氮化锌锡多晶薄膜的制备方法有效

专利信息
申请号: 201410379727.5 申请日: 2014-08-04
公开(公告)号: CN104195514B 公开(公告)日: 2017-01-11
发明(设计)人: 梁凌燕;曹鸿涛;邓福岭;刘权;李秀霞;罗浩 申请(专利权)人: 中国科学院宁波材料技术与工程研究所
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35;C23C14/06
代理公司: 杭州天勤知识产权代理有限公司33224 代理人: 刘诚午
地址: 315201 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种氮化锌锡多晶薄膜的制备方法,首先将清洗好的衬底和锌锡合金靶材放置在磁控溅射设备相应位置后,抽真空;再通入氮气,调节工作气压为1~3Pa,溅射功率为120~300W,经N离子轰击阴极锌锡合金靶材,在衬底上沉积形成氮化锌锡多晶薄膜。本发明在低温条件下,通过磁控溅射法生长ZnSnN2多晶薄膜,在真空腔体内一步完成,无需其它热处理,工艺简单、低耗能,大大降低了生产成本;本发明可以采用石英片、硅片、玻璃片或PET柔性塑料等作为衬底,相对于其它如蓝宝石等单晶衬底还具有成本低以及衬底预处理工艺简单等优点;且可以使用ZnSn合金靶材和氮气为原材料,可直接商业购买,因而原料的制备难度降低。
搜索关键词: 一种 氮化 多晶 薄膜 制备 方法
【主权项】:
一种氮化锌锡多晶薄膜的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:(1)将已清洗的衬底和锌锡合金靶材放置在磁控溅射设备相应位置后,抽真空;所述锌锡合金靶材中Zn与Sn的原子比大于1;(2)通入氮气,调节工作气压为1~3Pa,在室温下溅射,溅射功率为120~300W,经N离子轰击阴极锌锡合金靶材,在衬底上沉积形成氮化锌锡多晶薄膜。
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