[发明专利]偏光膜有效
| 申请号： | 201410382826.9 | 申请日： | 2011-11-29 |
| 公开（公告）号： | CN104155713A | 公开（公告）日： | 2014-11-19 |
| 发明（设计）人： | 后藤周作;泽田浩明;喜多川丈治;宫武稔 | 申请（专利权）人： | 日东电工株式会社 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30;B29C55/02;B29C55/06;B32B27/30 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及一种偏光膜。本发明提供一种制造具有优异的光学特性的偏光膜的方法。本发明的偏光膜的制造方法包括：在热塑性树脂基材(11)上形成聚乙烯醇系树脂层(12)制作层叠体(10)的工序；用碘将层叠体(10)的聚乙烯醇系树脂层(12)染色的工序；拉伸层叠体(10)的工序；在染色工序和拉伸工序之后，用透湿度为100g/m2·24h以下的覆盖薄膜覆盖层叠体(10)的聚乙烯醇系树脂层(12)表面，在该状态下加热层叠体(10)的工序。 | ||
| 搜索关键词： | 偏光 | ||
【主权项】：
一种偏光膜，其利用包含下述工序的偏光膜的制造方法而得到：在热塑性树脂基材上形成聚乙烯醇系树脂层制作层叠体的工序；用碘对该层叠体的聚乙烯醇系树脂层进行染色的工序；拉伸该层叠体的工序；在该染色工序和拉伸工序之后，用透湿度为100g/m2·24h以下的覆盖薄膜覆盖该层叠体的聚乙烯醇系树脂层表面，在该状态下加热该层叠体的工序。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日东电工株式会社，未经日东电工株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201410382826.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种导光装置、背光模组和显示装置
- 下一篇：一种发光反光膜及其制备方法
