[发明专利]应用于低温多晶硅加热工艺中的加热装置及加热方法在审
| 申请号： | 201410398314.1 | 申请日： | 2014-08-13 |
| 公开（公告）号： | CN105332059A | 公开（公告）日： | 2016-02-17 |
| 发明（设计）人： | 彭思君;吴建宏;严晓龙;刘冲 | 申请（专利权）人： | 上海和辉光电有限公司 |
| 主分类号： | C30B33/02 | 分类号： | C30B33/02;H01L21/67 |
| 代理公司： | 隆天知识产权代理有限公司 72003 | 代理人： | 聂慧荃;黄艳 |
| 地址： | 201500 上海市金山区*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种应用于低温多晶硅加热工艺中的加热方法及加热装置，所述加热装置包括：加热室；辐射式加热器，设置在所述加热室的外侧，用以向该加热室内提供辐射热量；以及吸热板，设置于加热室内，所述吸热板能够吸收所述辐射式加热器的辐射热量，并且所述吸热板上能够放置待加热的物件。当将所述待加热的物件放置在所述加热室中的所述吸热板上并与该吸热板接触时，在所述物件接受所述辐射式加热器的辐射热量的同时，所述吸热板利用所吸收的辐射热量以接触的方式加热所述物件。本发明整合了辐射式加热和接触式加热方式的优点，改善了辐射式加热设备不易大型化的问题及温度分布不均匀的问题，并且提高了加热速率。 | ||
| 搜索关键词： | 应用于 低温 多晶 加热 工艺 中的 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种应用于低温多晶硅加热工艺中的加热装置，所述加热装置包括：加热室；辐射式加热器，设置在所述加热室的外侧，用以向该加热室内提供辐射热量；以及吸热板，设置于加热室内，所述吸热板能够吸收所述辐射式加热器的辐射热量，并且所述吸热板上能够放置待加热的物件，其中，当将所述待加热的物件放置在所述加热室中的所述吸热板上并与该吸热板接触时，在所述物件接受所述辐射式加热器的辐射热量的同时，所述吸热板利用所吸收的辐射热量以接触的方式传递给所述物件。
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