[发明专利]硅光伏电池的钝化缺陷的光致发光绘图在审

专利信息
申请号: 201410399797.7 申请日: 2014-07-03
公开(公告)号: CN104282593A 公开(公告)日: 2015-01-14
发明(设计)人: J·拉戈斯基;M·D·威尔逊;F·科索斯;G·纳杜德瓦利 申请(专利权)人: 塞米拉布SDI有限责任公司
主分类号: H01L21/66 分类号: H01L21/66
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 邵亚丽
地址: 美国佛*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 用于快速且准确地对硅晶片中的钝化缺陷进行绘图的方法,包括例如,当在生产线中的传送带上输送晶片时,采集光致发光(PL)图像同时移动晶片。该方法可应用于太阳能电池制造中的硅晶片的在线诊断。示例性实施例包括由单个光致发光强度图像(图)获得整个晶片钝化缺陷图像的过程,并且为工艺控制提供快速的反馈。
搜索关键词: 硅光伏 电池 钝化 缺陷 光致发光 绘图
【主权项】:
一种检查光伏晶片的方法,包括:利用激发光相继照射晶片的多个照射区域,同时引起所述晶片与照射之间的相对动作;探测来自利用激发光相继照射的晶片的多个探测区域的光致发光光;基于探测到的光致发光光来形成晶片的光致发光强度图;以及基于光致发光强度图识别晶片中的缺陷,并据此确定关于晶片的信息。
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