[发明专利]一种覆膜栽培有机黄豆的方法在审
申请号: | 201410403622.9 | 申请日: | 2014-08-18 |
公开(公告)号: | CN105432266A | 公开(公告)日: | 2016-03-30 |
发明(设计)人: | 王贵孝 | 申请(专利权)人: | 王贵孝 |
主分类号: | A01G1/00 | 分类号: | A01G1/00;A01G13/02 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 730900 甘肃省白*** | 国省代码: | 甘肃;62 |
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摘要: | 本发明公开一种覆膜栽培有机黄豆的方法,属于农作物栽培技术领域。该发明合理施加基肥,改良土壤,可解决黄豆露地平播常规种植方式产量低和效益低的问题,显著提高籽粒产量;播种后覆盖黑白双面膜能节水抗旱、除草,有利于节约水资源,节省劳动力。 | ||
搜索关键词: | 一种 栽培 有机 黄豆 方法 | ||
【主权项】:
一种覆膜栽培有机黄豆的方法,其特征在于:包括以下步骤:⑴选种选茬选择籽粒饱满、抗病性高、产量高的高蛋白黄豆种子,其纯净度及发芽率均在95%以上,含水量不高于12%;选择禾本科作物为前茬的翻耕地块,如玉米、小麦等;⑵整地施肥深翻土地35‑40cm,精细整地,起垄,垄宽65‑70cm,垄高10‑15cm,垄沟宽30‑35cm;在整地的同时,施足基肥,基肥包括:每亩施加农家有机肥2000‑2500kg、草炭灰40‑65kg、豆饼10‑15kg、膨润土25‑60kg、硫酸钾0.5‑2.5kg、硫酸锌0.5‑1.2kg、磷酸二铵5‑8kg和硫酸锰0.5‑1.2kg;⑶播种覆膜将黄豆种子与0.1‑0.2%的钼酸铵进行拌种后播种,精量穴播,每垄两行,行间距30‑40cm,穴间距4.5‑5cm;播种后即覆盖黑白双面地膜,膜厚0.015‑0.02mm,膜宽75‑80cm,覆盖时地膜黑面向下,白面向上。
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