[发明专利]一种高致密铬钨合金靶材的制备方法

摘要

本发明属于粉末冶金材料制备技术领域，提供一种高致密铬钨合金靶材的制备方法。该铬钨合金靶材包括以下原子百分比的成分铬80～99％，钨1～20％。该铬钨合金靶材的制备方法为将钨粉还原后，和铬粉通过预合金粉末制备、装包套、脱气、热等静压、机加工等处理，获得所述铬钨合金靶材。本发明的铬钨合金靶材密度高(相对密度不小于99％)、组织均匀，晶粒细小(不大于50μm)；通过该靶材可用于电极触头材料等镀膜领域，制备具有高硬度、高耐电压强度、低截流值、可替代纯钨的薄膜材料。

主权项

一种铬钨合金靶材的制备方法，其特征在于，所述铬钨合金靶材的制备方法，包括以下步骤：步骤一、将钨粉进行还原处理，得到还原后的钨粉；步骤二、将所述还原后的钨粉和铬粉制备得到预合金粉末；所述预合金粉末是所述还原后的钨粉与铬粉进行磨粉处理得到的；所述磨粉处理采用高能球磨制粉处理；步骤三、将所述预合金粉末原料进行装包套处理，得到装满的包套；步骤四、将所述装满的包套进行脱气处理，得到脱气后的包套；步骤五、对所述脱气后的包套进行热等静压处理，得到压制后的锭坯，再去除包套得到压制后的坯料；所述热等静压处理的保温温度为1250～1445℃，保温时间为2～5h，压力为120～150MPa；步骤六、将所述压制后的坯料进行机加工处理，得到所述铬钨合金靶材；所述铬钨合金靶材包括以下原子百分比的成分：铬80～99％，钨1～20％。