[发明专利]一种刻蚀装置、刻蚀系统及刻蚀终点探测方法有效
| 申请号： | 201410412719.6 | 申请日： | 2014-08-20 |
| 公开（公告）号： | CN104217916B | 公开（公告）日： | 2017-07-28 |
| 发明（设计）人： | 庹文平;左志刚 | 申请（专利权）人： | 上海天马有机发光显示技术有限公司;天马微电子股份有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L21/67 |
| 代理公司： | 北京同达信恒知识产权代理有限公司11291 | 代理人： | 刘松 |
| 地址： | 201201 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种刻蚀装置、刻蚀系统及刻蚀终点探测方法，用以解决现有技术中存在刻蚀装置稼动率低以及刻蚀终点检测不准确的问题。方法为，在刻蚀装置的终点探测窗口中添加终点探测窗口保护结构以及终点探测窗口保护结构驱动装置，当刻蚀装置中进行的刻蚀过程的刻蚀终点到达时，通过终点探测窗口保护结构驱动装置驱动终点探测窗口保护结构遮挡探测窗，从而保护了探测窗不受过刻过程中刻蚀气体的腐蚀，延长了探测窗的使用寿命，保证了终点检测的准确性，提高了刻蚀装置的稼动率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 刻蚀 装置 系统 终点 探测 方法 | ||
【主权项】：
一种刻蚀装置，包括刻蚀腔，所述刻蚀腔包括终点探测窗口；其中：所述终点探测窗口包括探测窗、终点探测窗口保护结构以及终点探测窗口保护结构驱动装置；所述终点探测窗口保护结构，位于所述探测窗内侧，用于到达刻蚀终点时遮挡所述探测窗；所述终点探测窗口保护结构驱动装置，与所述终点探测窗口保护结构连接，用于当刻蚀终点到达时，驱动所述终点探测窗口保护结构关闭，当刻蚀过程结束后，驱动所述终点探测窗口保护结构打开。
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