[发明专利]一种晶片吸附装置在审
申请号: | 201410413008.0 | 申请日: | 2014-08-20 |
公开(公告)号: | CN105374733A | 公开(公告)日: | 2016-03-02 |
发明(设计)人: | 李晓明 | 申请(专利权)人: | 沈阳芯源微电子设备有限公司 |
主分类号: | H01L21/687 | 分类号: | H01L21/687 |
代理公司: | 沈阳科苑专利商标代理有限公司 21002 | 代理人: | 白振宇 |
地址: | 110168 辽*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | 本发明属于半导体设备领域,具体地说是一种晶片吸附装置,包括吸盘、密封圈及固定环,吸盘与晶片的接触面上设有多圈同心的环形槽,所述密封圈通过所述固定环安装在吸盘上,所述环形槽位于该密封圈内;所述晶片在吸盘未接通真空状态置于密封圈上,该密封圈的上部边缘在吸盘接通真空状态通过所述晶片压迫弯折、形成与晶片完整的全周密封区域,所述晶片在吸盘接通真空状态同时与被压迫的所述密封圈上部边缘及位于密封圈内的所述吸盘上的环形槽密封接触。本发明使用嵌入式氟橡胶密封圈实现吸盘与晶片真空吸附时的边缘密封,更好地实现了其吸附功能;本发明很好地避免了因晶片较硬或者存在严重翘曲而导致的吸附时产生的边缘真空泄漏。 | ||
搜索关键词: | 一种 晶片 吸附 装置 | ||
【主权项】:
一种晶片吸附装置,其特征在于:包括吸盘(1)、密封圈(2)及固定环(3),其中吸盘(1)与晶片(4)的接触面上设有多圈同心的环形槽(7),所述密封圈(2)通过所述固定环(3)安装在吸盘(1)上,所述环形槽(7)位于该密封圈(2)内;所述晶片(4)在吸盘(1)未接通真空状态置于密封圈(2)上,该密封圈(2)的上部边缘在吸盘(1)接通真空状态通过所述晶片(4)压迫弯折、形成与晶片(4)完整的全周密封区域,所述晶片(4)在吸盘(1)接通真空状态同时与被压迫的所述密封圈(2)上部边缘及位于密封圈(2)内的所述吸盘(1)上的环形槽(7)密封接触。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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