[发明专利]卡巴他赛晶N4型物质及制备方法和其组合物与用途在审
| 申请号： | 201410413600.0 | 申请日： | 2014-08-21 |
| 公开（公告）号： | CN105367521A | 公开（公告）日： | 2016-03-02 |
| 发明（设计）人： | 吕扬;杜冠华;徐薇;杨世颖;张丽 | 申请（专利权）人： | 中国医学科学院药物研究所 |
| 主分类号： | C07D305/14 | 分类号： | C07D305/14;A61K31/337;A61P35/00 |
| 代理公司： | 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 | 代理人： | 滕一斌 |
| 地址： | 100050*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： |
卡巴他赛晶N4型物质及制备方法和其组合物与用途，本发明公开了卡巴他赛化合物(化学名：4-乙酰氧基-2α-苯甲酰氧基-5β,20-环氧基-1-羟基-7β,10β-二甲氧基-9-氧代紫杉-11-烯-13α-基(2R,3S)-3-叔丁氧基羰基氨基-2-羟基-3-苯基丙酸酯，英文名：Cabazitaxel)的晶N4型、其制法和其组合物与用途。具体而言，本发明公开了在固体状态下卡巴他赛存在晶N4型固体物质状态形式；晶N4型固体物质样品的制备方法；利用卡巴他赛晶N4型物质在制备抗癌药物中的应用。 |
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| 搜索关键词： | n4 物质 制备 方法 组合 用途 | ||
【主权项】：
卡巴他赛晶N4型固体物质，其特征在于，当使用粉末X射线衍射分析采用CuKα辐射实验条件时，衍射峰位置2‑Theta值(°)或d值![]()
衍射峰相对强度峰高值(Height％)或峰面积值(Area％)具有如下表示：![]()
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