[发明专利]一种生物质基自崩解型放射性污染去污剂的制备及使用方法

摘要

本发明公开了一种生物质基自崩解型放射性污染去污剂的制备及使用方法，其特征包括：a.首先配制3％～7％(m/v)的改性木质素磺酸盐溶液和2％～4％(m/m)的壳聚糖溶液；然后按体积比1：1～2混合，并加入0.5％～1.5％(m/v)的阴离子表面活性剂及1％～3％(m/v)的络合剂，搅拌10～30min，超声波脱泡处理5～10min制得去污剂。b.将去污剂喷涂于放射性污染的材料表面，自然干燥10～20小时后成膜，膜自行崩解脱落，收集碎片、完成去污过程。本发明提供的去污剂采用来源丰富的生物质原料，去污方法简单、效果显著且在辐照下具有良好的去污特性，后处理固体废物量少并且可生物降解，同时有效避免了可剥离膜在去污过程中需要手动剥离的缺陷，减少了操作人员辐照损伤的机会。

主权项

一种生物质基自崩解型放射性污染去污剂的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤a、以木质素磺酸盐和甲醛为原料，并让二者通过羟甲基化反应制得改性木质素磺酸盐，然后将3～7重量份的改性木质素磺酸盐溶解在体积百分浓度为20％～80％的有机溶剂水溶液中制得质量体积百分浓度为3％～7％的改性木质素磺酸盐溶液；步骤b、在40～60℃下，伴随加热搅拌将0.7～1.4重量份的壳聚糖溶解在质量百分浓度为1％～5％的稀酸中制得质量百分浓度为2％～4％的壳聚糖溶液；步骤c、将改性木质素磺酸盐溶液和壳聚糖溶液在常温下按体积比1：1～2的比例混合，并加入质量体积百分浓度为0.5％～1.5％的阴离子表面活性剂和质量体积百分浓度为1％～3％的络合剂，置于搅拌设备中搅拌10～30min，然后经超声波脱泡处理5～10min制得去污剂。