[发明专利]用于可流动的氧化物沉积的组合物及其使用方法

摘要

本文所描述的是用于在半导体沉积工艺，例如但不限于，氧化硅的可流动化学气相沉积中形成膜的组合物或制剂。本文还描述了通过掺入本文所描述的炔醇和二醇或其它类型的表面活性剂从而改善表面润湿性的方法，所述炔醇和二醇或其它类型的表面活性剂例如但不限于3,5‑二甲基‑1‑己炔‑3‑醇、2,4,7,9‑四甲基‑5‑癸炔‑4,7‑二醇、4‑乙基‑1‑辛炔‑3‑醇、2,5‑二甲基己‑2,5‑二醇、2,4,7,9‑四甲基‑5‑十二炔‑4,7‑二醇、2,5,8,11‑四甲基‑6‑十二炔‑5,8‑二醇、2,6‑二甲基‑4‑庚醇、N,N’‑双(1,3‑二甲基丁基)乙二胺、酒石酸二异戊酯、2,4,7,9‑四甲基‑4,7‑癸二醇、及其任意组合。

主权项

一种制剂，其包含：(a)式I的第一有机硅烷前体：I.R1R2R3R4Si其中R1、R2、R3和R4各自独立地选自氢原子；卤原子；C1‑C12直链或支链烷基；C2‑C12烯基；C2‑C12炔基；C3‑C12芳基；C3‑C12环烷基；C1‑C12烷氧基；C5至C12芳氧基；C1至C12酰氧基；C5至C12芳酰氧基；异氰酸基；具有式NR5R6的氨基；和具有式‑CH2Si(OR7)nR83‑n或‑CH2CH2Si(OR7)nR83‑n的烷氧基甲硅烷基烷基，其中n是0至3的数；其中R5和R6独立地选自：氢原子、C1‑C6直链或支链烷基、C3至C12环烷基、和C3‑C12芳基；并且其中R5和R6连接成环或R5和R6不连接成环；其中R7和R8独立地选自：氢原子、C1‑C6直链或支链烷基、C3至C12环烷基和C3至C12芳基；并且其中R7和R8连接成环或R7和R8不连接成环；并且其中第一有机硅烷前体含有选自Si‑H、Si‑O和Si‑N键的至少两个可水解的键；(b)任选的不同于所述第一有机硅烷前体的第二有机硅烷前体，其选自：(1)式III的化合物：III.XSiR1R2R3其中X是选自F、Cl、Br和I的卤原子；其中R1、R2和R3各自独立地选自氢原子；卤原子；C1‑C12直链或支链烷基；C2‑C12烯基；C2‑C12炔基；C3‑C12芳基；C3‑C12环烷基；C1‑C12烷氧基；C5‑C12芳氧基；C1至C12酰氧基；C5至C12芳酰氧基；异氰酸基；具有式‑CH2Si(OR7)nR83‑n或‑CH2CH2Si(OR7)nR83‑n的烷氧基甲硅烷基烷基，其中n是0至3的数；其中R7和R8独立地选自：氢原子、C1‑C6直链或支链烷基、C3至C12环烷基和C3至C12芳基；并且其中R7和R8连接成环或R7和R8不连接成环；并且其中在所述第二有机硅烷前体内的取代基R1、R2和R3中的至少一个形成Si‑H、Si‑卤素、Si‑O或Si‑N键；和(2)具有式IV的化合物，所述式IV为：IV.(R5R6N)nSiH4‑n其中R5和R6独立地选自：氢原子、C1‑C6直链或支链烷基、C3至C12环烷基和C3至C12芳基，其中R5和R6连接成环或R5和R6不连接成环；并且其中n＝1、2、3或4；(c)任选的催化剂；和(d)表面活性剂，其具有选自式A至D之一的化学式：其中R1和R4各自独立地为直链或支链C1‑C7烷基；R2和R3各自独立地为氢原子或直链或支链C1‑C5烷基；R5为氢原子或者直链或支链C1‑C6烷基；W为氢原子或C2‑C12炔基；X和Y为氢原子或羟基；Z是具有式‑(CH2)j‑或式‑C≡C‑的连接基团；t是0至2的数；m，n各自独立地为0到4的数；r为2或3；并且j为0至2的数；其中对于式A而言，当R1为甲基且R5和W都是氢原子时，t不为0。