[发明专利]辉光离子氮化炉计算机多闭环控制系统

摘要

辉光离子氮化炉计算机多闭环控制系统，它包括离子氮化炉体(1)，位于离子氮化炉体(1)内的阴极盘(01)，位于所述阴极盘(01)上的工件(9)，所述的离子氮化炉体(1)位于底座(10)上，有电动机(5)通过皮带与真空泵(4)连接，真空泵(4)通过抽气管道(2)通入离子氮化炉体(1)内，在抽气管道(2)上有真空碟阀(3)；还包括压力闭环控制系统(P)，第一流量闭环控制系统(L1)、第二流量闭环控制系统(L2)和温度闭环控制系统(T)。本发明克服了现有的渗氮工艺的过程中很难做到按照既定的工艺路线和工艺参数进行规范的执行的缺点。本发明能在离子渗氮工艺执行过程中精确地控制各个工艺参数，精度可控制在±0.5％。

主权项

辉光离子氮化炉计算机多闭环控制系统，它包括离子氮化炉体(1)，位于离子氮化炉体(1)内的阴极盘(01)，位于所述阴极盘(01)上的工件(9)，所述的离子氮化炉体(1)位于底座(10)上，有电动机(5)通过皮带与真空泵(4)连接，真空泵(4)通过抽气管道(2)通入离子氮化炉体(1)内，在抽气管道(2)上有真空碟阀(3)；其特征在于还包括压力闭环控制系统(P)，第一流量闭环控制系统(L1)、第二流量闭环控制系统(L2)和温度闭环控制系统(T)；所述的压力闭环控制系统(P)包括依次连接的压力变送器(6)、第一数字调节器(7)和三相变频器(8)，所述的压力变送器(6)通过数据采集通道(20)连接离子氮化炉体(1)，所述的三相变频器(8)通过三相交流电源连接电动机(5)；所述的第一流量闭环控制系统(L1)包括依次连接的第一流量传感器(11)、第二数字调节器(12)和第一流量控制器(13)，所述的第一流量传感器(11)通过数据采集通道(20)连接离子氮化炉体(1)，所述的第一流量控制器(13)通入气体输送通道(22)；所述的第二流量闭环控制系统(L2)包括依次连接的第二流量传感器(14)、第三数字调节器(15)和第二流量控制器(16)，所述的第二流量传感器(14)通过数据采集通道(20)连接离子氮化炉体(1)，所述的第二流量控制器(16)通入气体输送通道(22)；所述的温度闭环控制系统(T)包括依次连接的温度传感器(17)、第四数字调节器(18)和离子加热脉冲电源(19)，所述的温度传感器(17)通过数据采集通道(20)连接离子氮化炉体(1)，所述离子加热脉冲电源(19)通过导线连接离子氮化炉体(1)。