[发明专利]含有低温插入层的铟镓氮/氮化镓多量子阱太阳能电池有效

专利信息
申请号: 201410426193.7 申请日: 2014-08-26
公开(公告)号: CN104201220A 公开(公告)日: 2014-12-10
发明(设计)人: 杨静;赵德刚;陈平;刘宗顺;江德生 申请(专利权)人: 中国科学院半导体研究所
主分类号: H01L31/04 分类号: H01L31/04;H01L31/0352
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 任岩
地址: 100083 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种含有低温插入层的铟镓氮/氮化镓多量子阱太阳能电池,包括:一衬底;一低温成核层,其制作在衬底上,该低温成核层为后续生长氮化镓材料提供成核中心;一非故意掺杂氮化镓缓冲层,其制作在低温成核层上;一n型掺杂氮化镓层,其制作在非故意掺杂氮化镓缓冲层上;一非故意掺杂多量子阱层,其制作在n型掺杂氮化镓层上面的一侧,另一侧的n型掺杂氮化镓层上面形成一台面,该非故意掺杂多量子阱层为铟镓氮太阳能电池的吸收层;一p型掺杂氮化镓层,其制作在非故意掺杂多量子阱层上;一N型欧姆电极,其制作在n型掺杂氮化镓层上的台面上;一P型欧姆电极,其制作在p型掺杂氮化镓层上。本发明具有增加入射光的吸收,并提高载流子的分离效率的优点。
搜索关键词: 含有 低温 插入 铟镓氮 氮化 多量 太阳能电池
【主权项】:
一种含有低温插入层的铟镓氮/氮化镓多量子阱太阳能电池,包括: 一衬底; 一低温成核层,其制作在衬底上,该低温成核层为后续生长氮化镓材料提供成核中心; 一非故意掺杂氮化镓缓冲层,其制作在低温成核层上; 一n型掺杂氮化镓层,其制作在非故意掺杂氮化镓缓冲层上; 一非故意掺杂多量子阱层,其制作在n型掺杂氮化镓层上面的一侧,另一侧的n型掺杂氮化镓层上面形成一台面,该非故意掺杂多量子阱层为铟镓氮太阳能电池的吸收层; 一p型掺杂氮化镓层,其制作在非故意掺杂多量子阱层上; 一N型欧姆电极,其制作在n型掺杂氮化镓层上的台面上; 一P型欧姆电极,其制作在p型掺杂氮化镓层上。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院半导体研究所;,未经中国科学院半导体研究所;许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201410426193.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top