[发明专利]含有低温插入层的铟镓氮/氮化镓多量子阱太阳能电池有效
申请号: | 201410426193.7 | 申请日: | 2014-08-26 |
公开(公告)号: | CN104201220A | 公开(公告)日: | 2014-12-10 |
发明(设计)人: | 杨静;赵德刚;陈平;刘宗顺;江德生 | 申请(专利权)人: | 中国科学院半导体研究所 |
主分类号: | H01L31/04 | 分类号: | H01L31/04;H01L31/0352 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 任岩 |
地址: | 100083 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 一种含有低温插入层的铟镓氮/氮化镓多量子阱太阳能电池,包括:一衬底;一低温成核层,其制作在衬底上,该低温成核层为后续生长氮化镓材料提供成核中心;一非故意掺杂氮化镓缓冲层,其制作在低温成核层上;一n型掺杂氮化镓层,其制作在非故意掺杂氮化镓缓冲层上;一非故意掺杂多量子阱层,其制作在n型掺杂氮化镓层上面的一侧,另一侧的n型掺杂氮化镓层上面形成一台面,该非故意掺杂多量子阱层为铟镓氮太阳能电池的吸收层;一p型掺杂氮化镓层,其制作在非故意掺杂多量子阱层上;一N型欧姆电极,其制作在n型掺杂氮化镓层上的台面上;一P型欧姆电极,其制作在p型掺杂氮化镓层上。本发明具有增加入射光的吸收,并提高载流子的分离效率的优点。 | ||
搜索关键词: | 含有 低温 插入 铟镓氮 氮化 多量 太阳能电池 | ||
【主权项】:
一种含有低温插入层的铟镓氮/氮化镓多量子阱太阳能电池,包括: 一衬底; 一低温成核层,其制作在衬底上,该低温成核层为后续生长氮化镓材料提供成核中心; 一非故意掺杂氮化镓缓冲层,其制作在低温成核层上; 一n型掺杂氮化镓层,其制作在非故意掺杂氮化镓缓冲层上; 一非故意掺杂多量子阱层,其制作在n型掺杂氮化镓层上面的一侧,另一侧的n型掺杂氮化镓层上面形成一台面,该非故意掺杂多量子阱层为铟镓氮太阳能电池的吸收层; 一p型掺杂氮化镓层,其制作在非故意掺杂多量子阱层上; 一N型欧姆电极,其制作在n型掺杂氮化镓层上的台面上; 一P型欧姆电极,其制作在p型掺杂氮化镓层上。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
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H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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