[发明专利]抛光浆料以及使用所述抛光浆料的衬底抛光方法有效
| 申请号： | 201410432719.2 | 申请日： | 2014-08-28 |
| 公开（公告）号： | CN104746080B | 公开（公告）日： | 2017-12-19 |
| 发明（设计）人： | 郑胜元 | 申请（专利权）人： | 优备材料有限公司 |
| 主分类号： | C23F3/06 | 分类号： | C23F3/06 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司11205 | 代理人： | 臧建明 |
| 地址： | 韩国京畿道龙*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 揭示一种用于钨的浆料和一种衬底抛光方法。所述浆料包含用于进行抛光且具有正动电位的磨料以及用于促进钨的氧化且用于控制所述磨料的动电位的电位调节剂。 | ||
| 搜索关键词： | 抛光 浆料 以及 使用 衬底 方法 | ||
【主权项】：
一种用于钨的抛光浆料，包括：磨料，用于进行抛光且具有正的动电位；以及电位调节剂，用于控制所述磨料的所述动电位，所述电位调节剂包括选自由以下各者组成的群组中的至少一者：草酸铁钾、乙二胺四乙酸铁钠、铁氰化钾以及乙酰丙酮铁(III)，其中以所述抛光浆料的总量计，所述电位调节剂所占的量是0.001重量％到1重量％，且所述磨料的所述动电位通过所述电位调节剂控制在+5毫伏到‑5毫伏之内。
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