[发明专利]一种等离子体加工设备

摘要

本发明提供了一种等离子体加工设备，包括反应腔室、驱动装置和转轴，在反应腔室内设置有承载装置和托盘，托盘用于承载多个基片，承载装置用于承载托盘，在承载装置内设置有吸附电极，吸附电极与电源电连接，以使托盘与承载装置采用静电吸附的方式固定，转轴对应托盘的中心区域设置，转轴的一端与承载装置固定连接，转轴的另一端与驱动装置的驱动轴相连接，借助驱动装置的驱动轴旋转驱动转轴围绕该转轴中心轴水平旋转，以带动承载装置和托盘围绕该托盘中心轴水平旋转。该等离子体加工设备可以提高位于同一圈层内多个基片的片间均匀性，从而可以提高单次工艺多个基片的均匀性。

主权项

1.一种等离子体加工设备，包括反应腔室，在所述反应腔室内设置有承载装置和托盘，所述托盘用于承载多个基片，所述承载装置用于承载所述托盘，其特征在于，在所述承载装置内设置有吸附电极，所述吸附电极与电源电连接，以使所述托盘与所述承载装置采用静电吸附的方式固定，还包括驱动装置和转轴，所述转轴对应所述托盘的中心区域设置，所述转轴的一端与所述承载装置固定连接，所述转轴的另一端与所述驱动装置的驱动轴相连接，借助所述驱动装置的驱动轴旋转驱动所述转轴围绕该转轴中心轴水平旋转，以带动所述承载装置和所述托盘围绕该托盘中心轴水平旋转；/n所述转轴的一端贯穿所述承载装置的下表面与所述承载装置固定连接；并且，所述转轴的外周壁上设置有导电层，所述导电层与所述吸附电极电连接，在所述导电层的外侧固定设置有与所述导电层相接触的接触电极，所述接触电极与所述电源电连接，所述电源通过所述接触电极、所述导电层与所述吸附电极电连接。/n