[发明专利]等离子处理装置

摘要

本发明提供一种等离子处理装置，抑制等离子处理中的、对环状框架造成的热影响，还防止该热影响所导致的罩的损伤。对保持在由环状的框架(7)和保持片(6)构成的搬运托架(5)上的基板(2)实施等离子处理。等离子处理装置具备：腔室(4)，其具有能够减压的内部空间；等离子源(12)，其在腔室(4)内产生等离子；工作台(11)，其设置在腔室(4)内，并载置搬运托架(5)；罩(28)，其载置在工作台(11)的上方，覆盖保持片(6)和框架(7)，且具有以在厚度方向上贯通的方式形成的窗部(32)。罩(28)由导热性优异的材料构成，暴露于等离子的表面中的、至少窗部(32)侧由保护部(28a)覆盖，保护部(28a)由与等离子反应的反应性低的材料构成。

主权项

1.一种等离子处理装置，其对保持在搬运托架上的基板实施等离子处理，该搬运托架由环状的框架和保持片构成，所述等离子处理装置的特征在于，具备：腔室，其具有能够减压的内部空间；等离子源，其在所述腔室内产生等离子；工作台，其设置在所述腔室内，并载置所述搬运托架；罩，其载置在所述工作台上，覆盖所述保持片和所述框架，且具有以在厚度方向上贯通的方式形成的窗部，所述罩由导热性优异的材料构成，暴露于等离子的表面中的、至少所述窗部的内周面由保护部覆盖，该保护部由与等离子反应的反应性低的材料构成，所述保护部利用组装而安装于所述罩，在所述保护部和所述罩的接触部分形成有凹凸或者突起，或实施有粗糙面加工。