[发明专利]一种光罩图形缺陷检测系统及方法有效
| 申请号： | 201410440440.9 | 申请日： | 2014-09-01 |
| 公开（公告）号： | CN104198509B | 公开（公告）日： | 2017-01-11 |
| 发明（设计）人： | 陈超;郭贤权;许向辉;何理 | 申请（专利权）人： | 上海华力微电子有限公司 |
| 主分类号： | G01N23/22 | 分类号： | G01N23/22 |
| 代理公司： | 上海申新律师事务所31272 | 代理人： | 吴俊 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及半导体缺陷检测领域，具体涉及一种光罩图形缺陷检测系统及方法，本发明给新产品的研发过程增加一种检测由光罩图形设计弱点和工艺窗口不足所导致的系统缺陷的手段，可有效降低目前由于扫描机台可能未能发现某些系统缺陷所造成的风险，从而提升新产品的良率，降低研发成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 图形 缺陷 检测 系统 方法 | ||
【主权项】：
一种光罩图形缺陷检测系统，其特征在于，所述系统包括：存储模块，储存有光罩设计图形数据；预选模块，根据光罩图形设计规则和工艺缺陷在样品中选取部分区域作为待测区域；筛选模块，根据产能情况来设定一筛选规则以选取部分待测区域；处理模块，根据所述预选模块中的待测区域和筛选模块的筛选规则选取部分待测区域作为检测区域；检测模块，对所述检测区域进行缺陷检测；执行模块，所述执行模块用于执行所述检测模块的检测操作。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海华力微电子有限公司，未经上海华力微电子有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201410440440.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
