[发明专利]用于提高光轴耐蚀性和耐磨性的离子渗剂有效
| 申请号： | 201410444336.7 | 申请日： | 2014-09-02 |
| 公开（公告）号： | CN104152843A | 公开（公告）日： | 2014-11-19 |
| 发明（设计）人： | 罗德福;漆世荣 | 申请（专利权）人： | 成都伍田机械技术有限责任公司 |
| 主分类号： | C23C12/00 | 分类号： | C23C12/00 |
| 代理公司： | 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371 | 代理人： | 吴开磊 |
| 地址： | 611400 四川省*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明属于黑色金属防腐耐磨处理工艺领域，具体而言，涉及一种用于提高光轴耐蚀性和耐磨性的离子渗剂。该用于提高光轴耐蚀性和耐磨性的离子渗剂，包括在光轴表层形成复合化合物层与金属氧化层，依次采用的氮碳镧离子渗剂、离子活化渗剂、氧离子渗剂。本发明通过将非金属元素和微量金属元素渗入光轴的表面中，在光轴的表面形成复合化合物层以及金属氧化层，不仅极大地提高了金属的耐蚀性和耐磨性，并且对环境无污染。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 提高 光轴 耐蚀性 耐磨性 离子 | ||
【主权项】：
用于提高光轴耐蚀性和耐磨性的离子渗剂，其特征在于，包括在光轴表层形成复合化合物层与金属氧化层，依次采用的氮碳镧离子渗剂、离子活化渗剂、氧离子渗剂。
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