[发明专利]微细图案形成用积层体

摘要

本发明的目的在于为了在被处理体上形成高纵横比的微细图案，提供可容易地形成残留膜薄或无残留膜的微细图案的微细图案形成用积层体及微细图案形成用积层体的制造方法。本发明的微细图案形成用积层体(1)是用于在被处理体(200)上介由第1掩模层(103)形成微细图案(220)的微细图案形成用积层体(1)，其特征在于，具备在表面上具有凹凸结构(101a)的模具(101)和在凹凸结构(101a)上设置的第2掩模层(102)，第2掩模层(102)的距离(lcc)及凹凸结构(101a)的高度(h)满足下述式(1)，且距离(lcv)和高度(h)满足下述式(2)。式(1)0<lcc<1.0h式(2)0≤lcv≤0.05h。

主权项

一种微细图案形成用积层体，其特征在于，具备被处理体，设置在所述被处理体的一个主面上的表面具有凹凸结构的第1掩模层，设置在所述第1掩模层的所述凹凸结构上的第2掩模层，所述凹凸结构的凸部顶部位置(S)与在所述凹凸结构的凹部内部形成的所述第2掩模层的界面位置(Scc)之间的距离(lcc)，以及所述凹凸结构的高度(h)满足下述式(1)，并且，所述凸部顶部位置(S)与在所述凹凸结构的凸部上部形成的所述第2掩模层的顶部位置(Scv)的距离(lcv)满足下述式(20)，同时，由所述第1掩模层中的其与所述被处理体的界面和所述凸部顶部位置(S)之间的距离表示的所述第1掩模层的膜厚满足50nm以上、1500nm以下的范围，式(1)0<lcc<1.0h式(20)0≤lcv<h‑lcc。