[发明专利]基于扫描电镜和能谱分析的电触头材料电弧侵蚀程度测试在审
| 申请号： | 201410449237.8 | 申请日： | 2014-09-04 |
| 公开（公告）号： | CN104198258A | 公开（公告）日： | 2014-12-10 |
| 发明（设计）人： | 王珩;李素华;刘立强;翁桅;柏小平;林万焕 | 申请（专利权）人： | 福达合金材料股份有限公司 |
| 主分类号： | G01N1/32 | 分类号： | G01N1/32;G01N23/203 |
| 代理公司： | 温州瓯越专利代理有限公司 33211 | 代理人： | 陈加利 |
| 地址： | 325000 浙江省温州市*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种基于扫描电镜和能谱分析的电触头材料电弧侵蚀程度测试方法，将通过电弧侵蚀后铆钉型电触头沿垂直于工作面剖开，制备金相试样后置于扫描电镜样品台观察得到电弧侵蚀直径D和电弧侵蚀深度H，以表达式为D2·H来数值化标准铆钉型电触头材料电弧侵蚀程度。本发明提出利用制备金相试样可以得到电弧侵蚀深度及元素迁移情况，同时也能对各种铆钉型电触头材料电弧侵蚀过程进行归纳总结，给低压电器行业发展提供技术支持。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 扫描电镜 谱分析 电触头 材料 电弧 侵蚀 程度 测试 | ||
【主权项】：
一种基于扫描电镜和能谱分析的电触头材料电弧侵蚀程度测试方法，其特征在于：将通过电弧侵蚀后电触头沿垂直于工作面剖开，制备金相试样后置于扫描电镜样品台，扫描电镜以背散射模式观察得到电弧侵蚀直径D和电弧侵蚀深度H，以表达式为D2·H来数值化标准铆钉型电触头材料电弧侵蚀程度，然后对金相试样进行能谱分析，该能谱分析以背散射模式进行，定性和定量分析金相试样的组分分布。
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